[发明专利]阵列基板和液晶显示面板有效

专利信息
申请号: 201510580215.X 申请日: 2015-09-11
公开(公告)号: CN105068303B 公开(公告)日: 2018-08-07
发明(设计)人: 樊勇 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1362
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 阵列 液晶显示 面板
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括第一基板、薄膜晶体管阵列及第一滤光膜,所述第一基板具有相对而设置的第一表面和第二表面,所述薄膜晶体管阵列设置于所述第一基板的所述第二表面一侧,所述第一滤光膜设置于所述第一基板的所述第一表面,所述第一滤光膜包括多个第一膜层和多个第二膜层,第一个所述第一膜层设置于所述第一表面,所述第二膜层与所述第一膜层逐层交替叠加,且距离所述第一基板最远的膜层设置为所述第一膜层,所述第一膜层的折射率大于所述第二膜层的折射率,所述第一膜层和所述第二膜层的总层数大于或等于15层,所述第一滤光膜用于滤除波长为570nm至610nm范围内的光。

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括第二滤光膜,所述第二滤光膜设置于所述第一基板和所述薄膜晶体管阵列之间,所述薄膜晶体管阵列设置于所述第二滤光膜表面。

3.如权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,所述第一膜层取材为TiO2、Nb2O5、Ti3O5、Ti2O3、TiO和CeO2中的至少一种,所述第二膜层取材为Y2O3、SiO2、CeF3、YF3和ZnO中的至少一种。

4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述第一膜层的厚度在45nm至135nm的范围内,所述第二膜层的厚度在55nm至145nm的范围内。

5.一种液晶显示面板,其特征在于,包括背光源、下偏光片、彩膜基板、权利要求1至4任一项所述的阵列基板、以及填充于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶,所述背光源设置于所述下偏光片的下方,所述下偏光片设置于所述阵列基板之设有所述第一滤光膜的一侧,所述阵列基板之设有所述薄膜晶体管阵列的一侧朝向所述液晶及所述彩膜基板。

6.如权利要求5所述的液晶显示面板,其特征在于,所述彩膜基板包括第二基板和像素阵列,所述第二基板具有相对而设置的第三表面和第四表面,所述像素阵列设置于所述第二基板的所述第三表面一侧。

7.如权利要求6所述的液晶显示面板,其特征在于,所述彩膜基板还包括第三滤光膜,所述第三滤光膜设置于所述第二基板的所述第四表面。

8.如权利要求6所述的液晶显示面板,其特征在于,所述彩膜基板还包括第三滤光膜,所述第三滤光膜设置于所述第二基板的所述第三表面,所述像素阵列设置于所述第三滤光膜的表面。

9.如权利要求5至8任一项所述的液晶显示面板,其特征在于,所述第一基板和所述第二基板为玻璃、蓝宝石、类金刚石、石墨烯或聚酯薄膜。

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