[发明专利]坩埚结构有效

专利信息
申请号: 201510580614.6 申请日: 2015-09-11
公开(公告)号: CN105088147B 公开(公告)日: 2017-09-26
发明(设计)人: 赵德江;王浩 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 彭久云
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 坩埚 结构
【说明书】:

技术领域

发明的实施例涉及一种坩埚结构。

背景技术

随着有机发光二极管(OLED)显示器件的用途愈加广泛,其制作工艺也日趋成熟。当前,OLED器件中各层的制作方法主要有蒸镀、旋涂和喷墨打印等多种方式。在这些制作方法中,蒸镀方式是一种比较成熟的方法,且已经运用于量产。低世代线一般使用的是蒸镀模式,而且多采用点源蒸镀的方式。使用点源作为蒸镀方式时,由于点源只是存在于腔体中的某一位置,为了保证基板蒸镀的均一性,一般需要转动基板。但这种通过转动基板保证蒸镀均一性的方法常常会导致蒸镀后的基板出现中间偏厚,四周偏薄的情况。

发明内容

本发明提供一种坩埚结构,用于解决采用点源蒸镀时在基板上形成的蒸镀层的厚度不均问题。

一种坩埚结构,包括坩埚本体和坩埚盖,其中,所述坩埚本体包括坩埚底壁和坩埚侧壁,所述坩埚侧壁的一端与所述坩埚底壁相连,所述坩埚侧壁的另一端设置有所述坩埚盖,所述坩埚盖与所述坩埚的轴线方向的夹角为锐角,在所述坩埚盖上设有开口结构。

例如,所述坩埚盖与所述坩埚的轴线方向的夹角范围是30°~60°。

例如,所述坩埚盖与所述坩埚的轴线方向的夹角范围是40°~45°。

例如,所述开口结构为喷嘴。

例如,所述喷嘴为狭缝状喷嘴,所述狭缝状喷嘴的数量为一个或多个。

例如,所述狭缝状喷嘴为多个,包括位于中间的第一狭缝状喷嘴及在所述第一狭缝状喷嘴两侧呈对称分布的多个狭缝状喷嘴。

例如,所述狭缝状喷嘴在所述坩埚盖的远离所述坩埚底壁一端向靠近所述坩埚底壁一端的方向延伸,且所述狭缝的远离所述坩埚底壁的一端的宽度小于其在靠近所述坩埚底壁一端的宽度。

例如,所述狭缝状喷嘴的数量为奇数个,且位于正中间的狭缝状喷嘴的长度大于位于其两侧的狭缝状喷嘴的长度。

例如,所述喷嘴为圆形喷嘴,所述圆形喷嘴的数量为一个或多个。

例如,所述圆形喷嘴的数量为多个,且所述圆形喷嘴的数量从远离所述坩埚底壁向靠近所述坩埚底壁的方向逐渐增加。

例如,所述圆形喷嘴的数量为多个,且所述多个圆形喷嘴包括位于中心的第一圆形喷嘴以及环绕所述第一圆形喷嘴设置的多个圆形喷嘴。

例如,所述坩埚盖与所述坩埚底壁之间还设置有分流板,所述分流板的周边连接到所述坩埚侧壁;所述分流板上设置有多个贯穿所述分流板的分流孔。

例如,在所述分流板上设置的所述分流孔中,相邻两个所述分流孔的中心距是这两个所述分流孔半径和的1.2~1.3倍。

例如,所述分流板与所述坩埚的轴线方向的夹角为锐角。

例如,所述分流板与所述坩埚的轴线方向的夹角范围是30°~60°。

例如,所述分流板与所述坩埚盖为彼此平行地设置。

例如,所述分流板上的所述分流孔的开孔密度从所述分流板的远离所述坩埚底壁一端向靠近所述坩埚底壁一端逐渐增大。

例如,所述分流板与所述坩埚盖之间的距离小于其与所述坩埚底壁之间的距离。

例如,取经过所述坩埚本体的所述坩埚底壁上任意一点的平行于所述坩埚的轴线方向的直线作为第一直线,所述第一直线分别与所述分流板和所述坩埚盖相交,所述第一直线分为在所述分流板与所述坩埚底壁之间的第一线段以及在所述分流板与所述坩埚盖之间的第二线段;所述第一线段的长度L1与所述第二线段的长度L2满足2≤L1/L2≤4。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例,而非对本发明的限制。

图1、图2为采用点源进行蒸镀的示意图;

图3为本发明的一个实施例中坩埚的结构示意图;

图4、图5为采用本发明实施例的坩埚的蒸镀示意图;

图6a为示出本发明的一个实施例中狭缝状喷嘴在坩埚盖上的分布的俯视图;

图6b为图6a沿A-A'方向的截面图;

图6c为图6a的沿坩埚轴线且垂直于三个狭缝状喷嘴中心线的局部截面示意图;

图7a为本发明的一个实施例中圆形喷嘴在坩埚盖上的分布示意图;

图7b为图7a沿B-B'方向的截面图;

图8a为本发明的一个实施例中坩埚设置分流板后的侧向透视图;

图8b为本发明的一个实施例中分流板上分流孔的分布的俯视图;

图9为本发明的一个实施例中的分流板设置位置示意图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510580614.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top