[发明专利]分析物的浊度测定方法

权利要求书

1.一种对样本中的分析物的散射光度进行测定方法，所述样本位于测量元件中，所述方法包括以下步骤：

a.将所述测量元件放入包括至少一个光学单元的散射比浊系统中，

所述光学单元包括：至少一个光源，用于发射光束；挡块，用于阻挡穿过所述测量元件之后的所述光束的非散射部分；以及光电检测器，用于接收穿过所述测量元件之后的所述光束的散射部分；

b.移动所述测量元件和/或移动所述光学单元，使得由所述光源发射的光束沿着路线穿过所述测量元件；

c.记录沿着所述路线由所述光电检测器接收的光强度信号，由所述光源发射的光束沿着所述路线穿过所述测量元件；

d.测定所记录的光强度信号的间隔I的位置，该位置仅包含来自于穿过所述测量元件的光束的散射部分的光强度信号，其中，所述间隔I的尺寸来自于限定数量的光强度信号并且是所使用的散射比浊系统的预定参数；以及

e.基于所述记录的光强度信号的间隔I中的光强度信号或者基于所述记录的光强度信号的间隔I中的多个光强度信号的平均值测定所述分析物，

其特征在于，借助于沿着所述路线记录的所述光强度信号，对所述所记录的光强度信号的间隔I的位置进行确定，其中，对所述路线的评估如下：

-形成沿着所述路线记录的所述光强度信号的一阶导数f’(x)和二阶导数f”(x)；

-测定满足条件f’(x)0和f”(x)＝0的沿着所述路线的第一位置Ff；

-测定满足条件f’(x)0和f”(x)＝0的沿着所述路线的第二位置Fs；以及

-通过应用公式M＝Ff+(Fs-Ff)/2确定沿着所述路线的第三位置M；以及

-将所述间隔I定位，使得所述位置M形成所述间隔I的中心。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法步骤b)-d)重复n次，并且其中，步骤e)中所进行的对所述分析物的测定是基于所记录的光强度信号的n+1个间隔I的各一个光强度信号的平均值或者基于所记录的光强度信号的n+1个间隔I的多个光强度信号的n+1个平均值的平均值。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法步骤b)-d)重复n次，并且其中，步骤e)中所进行的对所述分析物的测定是基于所记录的光强度信号的n+1个间隔I的各一个光强度信号的随时间的变化或者基于所记录的光强度信号的n+1个间隔I的多个光强度信号的平均值的随时间的变化。

4.一种散射比浊系统，包括至少一个光学单元，所述光学单元包括用于发射光束的至少一个光源、用于测量元件的至少一个插座位置、用于阻挡穿过布置在所述插座位置中的测量元件之后的光束的非散射部分的挡块、以及用于接收穿过所述测量元件之后的光束的散射部分的光电检测器，其中在一方面，所述光源、所述挡块和所述光电检测器能够相对彼此移动，并且在另一方面，所述光源、所述挡块和所述光电检测器以及所述插座位置能够相对彼此移动，其特征在于，所述散射比浊系统还具有控制器，该控制器控制包括以下方法步骤的方法：

i.移动所述测量元件和/或移动所述光学单元，使得由所述光源发射的光束沿着路线穿过所述测量元件；

ii.记录沿着所述路线由所述光电检测器接收的光强度信号，由所述光源发射的光束沿着所述路线穿过所述测量元件；

iii.测定所记录的光强度信号的间隔I的位置，该位置仅包含来自于穿过所述测量元件的光束的散射部分的光强度信号，其中，所述间隔I的尺寸来自于限定数量的光强度信号并且是所使用的散射比浊系统的预定参数；并且

iv.基于所述记录的光强度信号的间隔I的光强度信号或者基于记录的光强度信号的间隔I中的多个光强度信号的平均值测定分析物，

其中，借助于沿着路线所记录的光强度信号，对所记录的光强度信号的间隔I的位置进行确定，对所述路线的评估如下：

-形成沿着所述路线记录的光强度信号的一阶导数f’(x)和二阶导数f”(x)；

-测定满足条件f’(x)0和f”(x)＝0的沿着所述路线的第一位置Ff；

-测定满足条件f’(x)0和f”(x)＝0的沿着所述路线的第二位置Fs；以及

-通过应用公式M＝Ff+(Fs-Ff)/2确定沿着所述路线的第三位置M；以及

-对所述间隔I进行定位，使得所述位置M形成所述间隔I的中心。