[发明专利]面位置检测装置、曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种面位置检测装置，具备从倾斜方向向受检面上投射光束的投射系统、接收由上述受检面反射的光束的受光系统，并基于该受光系统的输出来检测出上述受检面的面位置，该面位置检测装置的特征是，

上述投射系统具备第一反射面，

上述受光系统具备第二反射面，

该面位置检测装置还具备位置错移补偿构件，其用于补偿穿过了上述投射系统的上述第一反射面及上述受光系统的上述第二反射面的光束的偏光成分所致的相对的位置错移。

2.一种面位置检测装置，具备从倾斜方向向受检面上投射光束的投射系统、接收由上述受检面反射的光束的受光系统，并基于该受光系统的输出来检测出上述受检面的面位置，该面位置检测装置的特征是，

上述投射系统和上述受光系统的至少一个具备反射面，

该面位置检测装置还具备位置错移补偿构件，其用于补偿穿过了上述反射面的光束的偏光成分所致的相对的位置错移。

3.根据权利要求1或2所述的面位置检测装置，其特征是，上述位置错移补偿构件具有根据入射光线的偏光方向将射出光线的行进方向以不同的角度倾斜的第一补偿元件。

4.根据权利要求3所述的面位置检测装置，其特征是，上述第一补偿元件配置于上述投射系统的光瞳空间或上述受光系统的光瞳空间。

5.根据权利要求3所述的面位置检测装置，其特征是，

上述投射系统具备形成与上述受检面光学地共轭的位置的投射侧成像光学系统，

上述受光系统具备形成与上述受检面光学地共轭的位置的受光侧成像光学系统，

上述第一补偿元件配置于上述投射侧成像光学系统的光瞳空间或上述受光侧成像光学系统的光瞳空间。

6.根据权利要求1至5中任意一项所述的面位置检测装置，其特征是，上述位置错移补偿构件具有根据入射光线的偏光方向将射出光线的行进方向以不同的距离平行移动的第二补偿元件。

7.根据权利要求6所述的面位置检测装置，其特征是，上述第二补偿元件配置于上述投射系统的物体空间或像空间、或者上述受光系统的物体空间或像空间。

8.根据权利要求7所述的面位置检测装置，其特征是，

上述投射系统具备形成与上述受检面光学地共轭的位置的投射侧成像光学系统，

上述受光系统具备形成与上述受检面光学地共轭的位置的受光侧成像光学系统，

上述第二补偿元件配置于上述投射侧成像光学系统的物体空间或光瞳空间、或者上述受光侧成像光学系统的物体空间或光瞳空间。

9.根据权利要求1所述的面位置检测装置，其特征是，上述位置错移补偿构件具有配置于上述第一反射面与上述第二反射面之间的光路中并用于改变入射光线的偏光方向的相位构件。

10.根据权利要求9所述的面位置检测装置，其特征是，上述相位构件具有1/2波阻片或法拉第旋光器。

11.一种面位置检测装置，具备从倾斜方向向受检面上投射光束的投射系统、接收由上述受检面反射的光束的受光系统，并基于该受光系统的输出来检测出上述受检面的面位置，该面位置检测装置的特征是，

上述投射系统具备第一反射面、和在该第一反射面的射出侧配置的投射侧偏光消除元件，

上述受光系统具备与上述第一反射面对应地配置的第二反射面、和在该第二反射面的入射侧配置的受光侧偏光消除元件。

12.根据权利要求11所述的面位置检测装置，其特征是，上述偏光消除元件具有由具有双折射性的晶体材料形成的偏向棱镜。

13.根据权利要求1至12中任意一项所述的面位置检测装置，其特征是，

上述投射系统具有用于在上述受检面上形成规定图案的一次像的投射光学系统，

上述受光系统具有用于将由上述受检面反射的光束聚光而形成上述规定图案的二次像的聚光光学系统、和检测出经由该聚光光学系统形成的上述规定图案的二次像的检测部，

基于上述检测部的输出来检测出上述受检面的面位置。

14.根据权利要求1及3至13中任意一项所述的面位置检测装置，其特征是，

上述投射系统具备与上述第一反射面大致平行地定位的第三反射面，

上述受光系统具备与上述第二反射面大致平行地定位的第四反射面。