[发明专利]抛光浆料的再生方法、基板的制造方法

权利要求书

1.一种抛光浆料的再生方法，其中，

所述再生方法包括再生由于对原板的表面进行抛光而混入了所述原板的成分的抛光浆料的再生工序；

所述原板的组成至少包含氧化铝和碱土金属氧化物；

在所述再生工序中，向由于抛光而从所述原板混入了所述氧化铝和所述碱土金属氧化物的所述抛光浆料中加入酸，然后从所述抛光浆料中除去所述氧化铝和所述碱土金属氧化物，由此再生所述抛光浆料。

2.如权利要求1所述的抛光浆料的再生方法，其中，在所述再生工序中，通过向由于抛光而从所述原板混入了所述氧化铝和所述碱土金属氧化物的抛光浆料中加入酸而将该抛光浆料的pH值调节至1～6的范围。

3.如权利要求1所述的抛光浆料的再生方法，其中，所述原板中，所述碱土金属氧化物的含有比例为1重量％以上，并且所述氧化铝和所述碱土金属氧化物的含有比例的合计为15重量％以上。

4.如权利要求2所述的抛光浆料的再生方法，其中，所述原板中，所述碱土金属氧化物的含有比例为1重量％以上，并且所述氧化铝和所述碱土金属氧化物的含有比例的合计为15重量％以上。

5.如权利要求1至4中任一项所述的抛光浆料的再生方法，其中，所述原板为玻璃。

6.如权利要求1至4中任一项所述的抛光浆料的再生方法，其中，所述酸为硫酸和盐酸中的至少一种。

7.如权利要求5所述的抛光浆料的再生方法，其中，所述酸为硫酸和盐酸中的至少一种。

8.一种基板的制造方法，其特征在于，包括以下工序：

使用抛光浆料对原板的表面进行抛光的抛光工序、和

再生在所述抛光工序中由于抛光而混入了所述原板的成分的抛光浆料的再生工序；

所述原板的组成至少包含氧化铝和碱土金属氧化物；

在所述再生工序中，向由于抛光而从所述原板混入了所述氧化铝和所述碱土金属氧化物的所述抛光浆料中加入酸，然后从所述抛光浆料中除去所述氧化铝和所述碱土金属氧化物，由此再生所述抛光浆料；

在所述抛光工序中，将在所述再生工序中再生后的抛光浆料供给至所述原板的表面，由此对所述原板的表面进行抛光。

9.如权利要求8所述的基板的制造方法，其中，在所述再生工序中，通过向由于抛光而从所述原板混入了所述氧化铝和所述碱土金属氧化物的抛光浆料中加入酸而将该抛光浆料的pH值调节至1～6的范围。

10.如权利要求8所述的基板的制造方法，其中，所述原板中，所述碱土金属氧化物的含有比例为1重量％以上，并且所述氧化铝和所述碱土金属氧化物的含有比例的合计为15重量％以上。

11.如权利要求9所述的基板的制造方法，其中，所述原板中，所述碱土金属氧化物的含有比例为1重量％以上，并且所述氧化铝和所述碱土金属氧化物的含有比例的合计为15重量％以上。

12.如权利要求8至11中任一项所述的基板的制造方法，其中，在所述抛光工序中，所述抛光浆料中从所述原板混入到该抛光浆料中的所述氧化铝和所述碱土金属氧化物的含有比例的合计为0.01重量％以上且小于0.06重量％。

13.如权利要求8至11中任一项所述的基板的制造方法，其中，所述原板为玻璃。

14.如权利要求12所述的基板的制造方法，其中，所述原板为玻璃。

15.如权利要求8至11中任一项所述的基板的制造方法，其中，所述酸为硫酸和盐酸中的至少一种。

16.如权利要求12所述的基板的制造方法，其中，所述酸为硫酸和盐酸中的至少一种。

17.如权利要求13所述的基板的制造方法，其中，所述酸为硫酸和盐酸中的至少一种。

18.如权利要求14所述的基板的制造方法，其中，所述酸为硫酸和盐酸中的至少一种。