[发明专利]一种改善超甜玉米种子活力的种子处理方法及其专用的复配引发剂在审

专利信息
申请号: 201510590391.1 申请日: 2015-09-16
公开(公告)号: CN105284891A 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 王博;李红飞 申请(专利权)人: 北京中农新星农业科技有限责任公司
主分类号: A01N59/16 分类号: A01N59/16;A01P21/00;A01C1/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅;赵静
地址: 100193 北京市海淀区天秀路*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 改善 甜玉米 种子 活力 处理 方法 及其 专用 引发
【说明书】:

技术领域

发明属于农作物栽培技术领域,具体涉及一种改善超甜玉米种子活力的种子处理方法及其专用的复配引发剂。

背景技术

超甜玉米由于其味道独特营养丰富,经济价值极高,近年来更是市场需求猛增。但超甜玉米由于胚乳隐性基因突变导致淀粉合成受阻,籽粒皱缩,种子活力低下,田间出苗率低,严重制约了其发展。目前很多研究试图用育种的方法从根本上提高种子活力,包括传统的杂交育种,新兴的突变育种,基因工程等,但育种方法不仅机理复杂,耗费高,难操作,而且还存在生物安全隐患。因此,找到一个简单易行,价格低廉且有效的提高种子活力的方式显得十分必要。

固体基质引发主要是以固体或半固体为基质,由于固体基质载体对水的吸附,单位种子吸水量降低,从而减缓种子吸水速率,细胞膜、DNA等得到充分修复,从而促进种子萌发,增强种子活力。目前关于固体基质引发处理的研究大多用水作为引发剂,因此具有一定的局限性。而化学试剂处理则是用天然的或人工合成的化学试剂对种子进行处理,进而影响种子内部生理生化反应,从而达到增强种子抗逆性,提高种子活力的目的。目前国内外关于固体基质引发技术和化学试剂处理对甜玉米种子活力的影响均有报道,但关于化学试剂结合固体基质引发处理甜玉米种子的研究较少,因此关于固体基质引发技术的应用研究仍有很大的发展空间。

赵光武、孙群、王建华在“药沙引发对超甜玉米种子活力及其生理变化的影响”中公开了用0.01%核黄素结合砂引发技术处理超甜玉米种子后,提高了超甜玉米种子的出苗速率、出苗率、幼苗株高及幼苗鲜重等种子活力常用指标,显著改善了超甜玉米种子活力。但该技术仅证明了单一引发剂核黄素对超甜玉米种子的引发效应,具有一定的局限性,且核黄素成本较高,生产上大量使用的可能性较小。

王芳、赛吾热尼沙、阿布都热西提在“引发对甜玉米种子发芽和幼苗生长的影响”中分别用水、KNO3、及KNO3与KH2PO3混合溶液对普通甜玉米浸泡12h进行引发处理,研究其对甜玉米种子萌发及幼苗生长的影响,结果表明,KNO3与KH2PO3混合溶液引发12h可以促进芽鞘伸长,增加幼苗鲜重,提高种子活力。但该技术仅采用化学试剂处理的方式,并没有结合砂引发的处理技术进行引发效应的进一步探索;而且不同品种的甜玉米对浸种条件的要求差异较大,如果浸种条件不适宜,不仅起不到提高甜玉米种子活力的效应,反而会因为甜玉米种子种皮较薄,造成吸胀损伤,电解质渗漏量较大,种子活力降低的后果,因此该现有技术的浸种条件不具有普适性。

发明内容

本发明的目的之一是提供一种用于改善超甜玉米种子活力的复配引发剂。

本发明所提供的复配引发剂,为氯化锌和硫酸钾的水溶液,其中,所述氯化锌和硫酸钾的水溶液中,氯化锌与硫酸钾的摩尔比为0.1:3-9,具体可为0.1:3、0.1:5,0.1:7,0.1:9,优选为0.1:7。

所述氯化锌和硫酸钾的水溶液中,氯化锌的摩尔浓度为0.0125mmol/L。

本发明的另一目的是提供一种采用上述复配引发剂改善超甜玉米种子活力的种子处理方法。

本发明所提供的改善超甜玉米种子活力的种子处理方法,包括下述步骤:采用上述复配引发剂结合砂引发对超甜玉米种子进行引发处理。

具体地,上述种子处理方法包括下述步骤:

1)配置所述复配引发剂,将所述复配引发剂与砂混合,得到混合物;

2)将超甜玉米种子与步骤2)中得到的混合物混匀后进行引发处理,得到引发后的超甜玉米种子;

3)将所述引发后的超甜玉米种子洗净、回干,即可。

上述方法步骤1)中,所述砂为过筛的灭菌砂,所述砂的直径为2mm。

所述复配引发剂与砂的配比为10-20mL:100g,如16.3mL:100g。

上述方法步骤2)中,所述超甜玉米种子与步骤1)中砂的配比为:200粒:900-1000g,如200粒:922g。

所述引发处理的条件为:在18-25℃(如20℃)的温度下黑暗条件下引发18-28小时,如24小时。

上述方法步骤3)中,所述回干在室温(20-25℃)下进行。

回干后的超甜玉米种子的含水量与引发前一致。

上述种子处理方法在促进超甜玉米种子萌发中的应用也属于本发明的保护范围。

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