[发明专利]一种钠掺杂钼平面靶材的制备方法有效
申请号: | 201510594613.7 | 申请日: | 2015-09-17 |
公开(公告)号: | CN105112859B | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 朱琦;王娜;王林;陈强 | 申请(专利权)人: | 金堆城钼业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;B22F3/16 |
代理公司: | 西安创知专利事务所61213 | 代理人: | 谭文琰 |
地址: | 710077 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掺杂 平面 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于钼材料加工成型技术领域,具体涉及一种钠掺杂钼平面靶材的制备方法。
背景技术
Cu(In,Ga)Se2(CIGS)是一种性能优良,具有高光电转化效率的多元半导体材料,以它为基础设计薄膜太阳能电池,其光电转化效率已达到20.4%,属于世界最高水平。研究发现,在CIGS中掺杂少量的碱金属Na(约5at%)能够显著提高其光电转化效率。对于工业生产的CIGS电池板而言,需要将Na掺杂到大面积的CIGS吸收层,以提高其光电转化效率。一般是直接使用石灰碳酸钠玻璃(SLG)作基板生产CIGS电池板,以SLG作为Na源材料。在使用SLG作为Na源材料制备CIGS吸收层的过程中,必须将SLG基板加热至约600℃以促进Na渗透至Mo背极层,从而掺杂到CIGS吸收层中,这种掺杂方法不易控制,导致Na分布不均匀,且SLG是硬性材料,不能做柔性太阳能电池板,因此必须开发新的Na源材料以替代SLG。目前在电池板的基板和Mo背极层间添加Mo-Na层作为Na源材料可以有效地将Na均匀掺杂到CIGS吸收层中,且容易控制。Mo-Na层由直流磁控溅射沉积而成,与制备Mo背极层的工艺相同,只需将Mo靶材换成Mo-Na靶材即可,操作简单,适合工业生产使用。而且,在不锈钢和高分子柔性基板上也可沉积Mo-Na层,从而制备柔性太阳能电池板。
作为制备柔性CIGS太阳能电池板Mo-Na层必备材料的Mo-Na溅射靶材,目前只有Plansee公司出售该产品。国内对Mo-Na溅射靶材的研究及生产还处于起步阶段,目前还没有成熟的Mo-Na靶材相关产品。随着CIGS太阳能电池技术的日益成熟,市场上对不同Na含量的Mo-Na靶材的需求必然增加,因此,为了避免国外公司对国内市场的继续垄断,对不同Na含量Mo-Na溅射靶材制备技术的研究势在必行。由于Mo元素(熔点2623℃)和Na元素(熔点97.7℃)的熔点相差大,不能直接形成化合物和固溶体,并且低熔点的Na在高温熔炼时极易挥发等原因,因此现有技术中制备Mo-Na溅射靶材最有效的方法是粉末冶金技术,其中Na主要以二水合钼酸钠(Na2MoO4)的形式存在于Mo-Na溅射靶材中。
目前,Mo-Na溅射靶材的制备方法见诸报道的有很多,从专利技术来看,主要有热等静压法、常规烧结法和真空热压法等,从这些专利分析来看,热等静压法是国内外普遍采用的方法,该方法可以制备出合格的Mo-Na溅射靶材,但其材料利用率低且制造成本高;常规烧结法是中国专利201310033234.1中提出的,该专利中没有考虑到Na的挥发性而不具有实际的工业应用价值;热压法是中国专利201410308148.1中提出的,该方法成本相对低,但没有提出对靶材组织的控制,而且该方法中热压温度低,Mo-Na坯料致密度相对较差,且由于大量二水合钼酸钠(二水合钼酸钠熔点687℃)的挥发性污染,会造成炉腔体表面附着大量白色的二水合钼酸钠,Na的含量不易控制等弊端。因此,现有技术亟需开发一种成本低、材料利用率高且Na含量和组织可控、产品一致性好的制备钠掺杂钼平面靶材的方法。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足,提供一种钠掺杂钼平面靶材的制备方法,该方法制备成本低、材料利用率高且靶材中Na含量和组织可控、产品一致性好,能够较好的满足工业化生产用钠掺杂钼平面靶材的需求。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种钠掺杂钼平面靶材的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一、将钼粉和二水合钼酸钠的混合粉末与去离子水搅拌均匀,喷雾干燥处理后得到钠掺杂钼颗粒;所述混合粉末中二水合钼酸钠的质量含量为5.26%~26.3%,余量为钼粉,所述钼粉的平均粒度为2.0μm~3.0μm,所述钼粉的粒度分布为1μm~10μm,所述去离子水的用量为钼粉质量的5%~20%;
步骤二、将步骤一中所述钠掺杂钼颗粒装入冷等静压模具后密封,在压力为160MPa~200MPa的条件下进行冷等静压压制,压制后去除冷等静压模具,得到板坯;
步骤三、对步骤二中所述板坯进行包套处理,然后将包套处理后的板坯抽真空密封;
步骤四、在温度为1200℃~1600℃,压力为45MPa~55MPa的条件下将步骤三中经抽真空密封后的板坯热压烧结3h~5h,然后对热压烧结后的板坯进行去包套处理,得到钠掺杂钼平面靶材。
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