[发明专利]一种光照还原有机薄膜制备石墨烯的方法在审
| 申请号： | 201510595167.1 | 申请日： | 2015-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN105174250A | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 任天令;陶璐琪;邓宁勤;田禾;刘莹;杨轶 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100084 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光照 还原 有机 薄膜 制备 石墨 方法 | ||
1.一种光照还原有机薄膜制备石墨烯的方法，其特征在于，所述方法包括：
采用激光光源对酰亚胺基有机高分子薄膜材料进行辐照，在所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料表面得到石墨烯。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料包括：聚酰亚胺薄膜或聚醚酰亚胺薄膜。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述激光光源的波长取值范围为200nm-10.6μm。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述激光光源采用线性扫描的方式对所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料进行辐照。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述激光光源的扫描速度的取值范围为1cm/s-8cm/s。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述激光光源以预设角对所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料进行曝光，所述预设角为所述激光光源的照射方向与所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料所在平面的夹角。。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述激光光源的曝光面积的取值范围为1cm×1cm-5cm×5cm。
8.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述激光光源固定在二轴移动平台上，以使所述激光光源在与所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料平行的平面内移动。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，采用激光光源按照预设的图形在与所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料平行的平面内移动，并对所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料进行辐照，在所述酰亚胺基有机高分子薄膜材料表面得到具有所述预设的图形的石墨烯。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，将波长范围为200nm-10.6um的激光光源固定于所述二轴移动平台上，使所述激光光源按照预设的图形在与所述聚酰亚胺薄膜或聚醚酰亚胺薄膜平行的平面内移动，并对所述聚酰亚胺薄膜或聚醚酰亚胺薄膜进行辐照，在所述聚酰亚胺薄膜或聚醚酰亚胺薄膜表面得到具有所述预设的图形的石墨烯。
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