[发明专利]一种能够光降解的塑料薄膜的生产工艺在审

专利信息
申请号: 201510595668.X 申请日: 2015-09-18
公开(公告)号: CN105694189A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 吕绪林 申请(专利权)人: 安徽义林塑业有限公司
主分类号: C08L23/08 分类号: C08L23/08;C08L23/06;C08L3/02;C08J3/22;B29C55/28
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地址: 246100 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 能够 光降解 塑料薄膜 生产工艺
【说明书】:

技术领域

本发明涉及塑料膜的生产领域,具体来说是一种能够光降解的塑料薄膜的生产工艺。

背景技术

随着石油化工产业的发展,聚乙烯,聚丙烯等塑料制品广泛应用于餐饮业,零售业和农业,但是这些塑料制品在自然环境下很难快速降解,造成“白色垃圾”,因此对这些聚乙烯,聚丙烯等塑料制品的改进是社会需要的,因为淀粉来源丰富,价格低廉,又可生物降解,所以淀粉填充聚乙烯塑料受到了广泛关注。为了改善淀粉与聚乙烯的相容性,提高淀粉在共混物中的填充量,可在共混体系中加入带亲水性基团的乙烯基共聚物,如乙烯.丙烯酸,在淀粉填充聚乙烯塑料中,尽管其中的淀粉可完全生物降解,但聚乙烯的环境降解性较差,添加光敏剂是提高聚乙烯降解性能的有效方法之一。

发明内容

本发明的目的是提供一种能够有光解的塑料薄膜及其生产工艺。

为实现这样的目的,本发明的技术方案为:采用所配辅料和低密度聚乙烯以及线性低密度聚乙烯混合造粒,不仅使得薄膜生产时易拉伸,同时使得薄膜强度增强,韧性增强,提高了薄膜的品质,同时能够光解,对环境无危害。本发明的工艺生产步骤如下:

1)原料辅料:淀粉,相容剂,增塑剂,光敏剂,加工助剂;

2)原料母料:低密度聚乙烯,线型低密度聚乙烯;

3)原料的混合制备:将淀粉经疏水化处理后,与相容剂、增塑剂、光敏剂、加工助剂等在高速混合机内混匀,然后加入低密度聚乙烯混合均匀,用双螺杆挤出机在120℃-160℃挤出,冷却造粒即得,生物降解母粒料。将上述母粒料干燥后与线型低密度聚乙烯按一定比例混合;

4)把步骤2)混合后的颗粒进行投放;

5)吹塑牵引,把吹塑出来的薄膜牵引拉伸;

6)风环冷却,负责对吹胀的膜泡进行冷却定型;

7)薄膜的卷取,收卷薄膜。

所述的一种能够光降解的塑料薄膜的生产工艺,其特征在于,所述原料辅料配比如下:淀粉30%-45%,相容剂5%-15%,增塑剂5%-15%,光敏剂5%-15%,加工助剂5%-15%。

所述的一种能够光降解的塑料薄膜的生产工艺,其特征在于,原料辅料与低密度聚乙烯的比为:1∶3。

所述的一种能够光降解的塑料薄膜的生产工艺,其特征在于,有原料辅料与低密度聚乙烯混合制成的母粒与线型低密度聚乙烯的混合比例为1∶2。

本发明的有益结果:

该工艺简洁合理、可实现自动化生产线、效率高,该工艺生产的塑料薄膜外观良好无褶皱、透明度高、厚度均匀、薄膜的纵向和横向拉伸强度高等优点,同时生产的薄膜具有一定的阻燃性,是薄膜的功能更加强大。

具体实施方式

实施例1

一种阻燃型塑料薄膜的生产工艺,其特征在于,所述生产工艺由以下步骤组成:

(1)原料辅料配比:淀粉45%,相容剂10%,增塑剂10%,光敏剂15%,加工助剂10%;

(2)原料母料:低密度聚乙烯,线型低密度聚乙烯;

(3)原料的混合制备:将淀粉经疏水化处理后,与相容剂、增塑剂、光敏剂、加工助剂等在高速混合机内混匀,然后加入低密度聚乙烯混合均匀(辅料与加入的低密度聚乙烯比例为1∶3)用双螺杆挤出机在150℃挤出,冷却造粒即得,生物降解母粒料。将上述母粒料干燥后与线型低密度聚乙烯按1∶2混合;

(4)把步骤1)混合后的的颗粒进行投放;

(5)吹塑牵引,把吹塑出来的薄膜牵引拉伸;

(6)风环冷却,负责对吹胀的膜泡进行冷却定型;

(7)薄膜的卷取,收卷薄膜。

实施例2

一种阻燃型塑料薄膜的生产工艺,其特征在于,所述生产工艺由以下步骤组成:

(1)原料配比:淀粉40%,相容剂15%,增塑剂15%,光敏剂15%,加工助剂15%;

(2)原料母料:低密度聚乙烯,线型低密度聚乙烯;

(3)原料的混合制备:将淀粉经疏水化处理后,与相容剂、增塑剂、光敏剂、加工助剂等在高速混合机内混匀,然后加入低密度聚乙烯混合均匀(辅料与加入的低密度聚乙烯比例为1∶3)用双螺杆挤出机在140℃挤出,冷却造粒即得,生物降解母粒料。将上述母粒料干燥后与线型低密度聚乙烯按1∶2混合;

(4)把步骤2)混合后的颗粒进行投放;

(5)吹塑牵引,把吹塑出来的薄膜牵引拉伸;

(6)风环冷却,负责对吹胀的膜泡进行冷却定型;

(7)薄膜的卷取,收卷薄膜。

以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

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