[发明专利]阵列基板和显示面板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括设置在衬底基板上的透明电极，所述透明电极位于所述阵列基板的最外层，其特征在于，所述透明电极上设置有感光层，所述感光层在所述衬底基板上的正投影与所述透明电极在所述衬底基板上的正投影重合，且所述感光层的表面形成有用于对液晶分子进行取向的沟槽。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述沟槽内设置有锚定层，用于增加对液晶分子进行取向的锚定力。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，制作所述锚定层的材料分子结构包括液晶态的主链和光聚合的侧链。

4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述感光层的材料为感光树脂。

5.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述透明电极上具有多个狭缝，为像素电极或公共电极。

6.一种阵列基板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成透明电极，其特征在于，所述制作方法还包括：

在所述透明电极上形成感光层，所述感光层在所述衬底基板上的正投影与所述透明电极在所述衬底基板上的正投影重合；

在所述感光层的表面形成用于对液晶分子进行取向的沟槽。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

在所述沟槽内形成锚定层，用于增加对液晶分子进行取向的锚定力。

8.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，形成所述透明电极和感光层的步骤具体包括：

形成透明导电薄膜；

在所述透明导电薄膜上形成感光薄膜；

采用掩膜板对所述感光薄膜进行曝光，显影，形成所述感光层；

以所述感光层为掩膜对所述透明导电薄膜进行刻蚀工艺，形成透明电极。

9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述沟槽内形成锚定层的步骤包括：

在所述感光层上形成锚定层薄膜，所述锚定层薄膜的材料包括第一材料和光引发剂，所述第一材料的分子结构包括液晶态的主链和光聚合的侧链；

利用紫外光照射所述锚定层薄膜，使所述锚定层薄膜中的第一材料固化在所述沟槽内。

10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的阵列基板。

11.一种显示装置，包括权利要求10所述的显示面板。

12.一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括阵列基板和彩膜基板，其特征在于，所述制作方法包括采用权利要求6-9任一项所述的制作方法制得所述阵列基板。

13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述显示面板的制作方法还包括：

对盒所述阵列基板和彩膜基板，在所述阵列基板和彩膜基板之间形成密封空间；

在所述密封空间内填充液晶；

当所述阵列基板的制作方法包括在所述沟槽内形成锚定层的步骤时，所述在所述沟槽内形成锚定层的步骤具体为：

在所述液晶中添加第一材料和光引发剂，所述第一材料的分子结构包括液晶态的主链和光聚合的侧链；

采用紫外光照射显示面板，使所述液晶中的第一材料固化在所述沟槽内。

14.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于，所述液晶中，所述第一材料和光引发剂的质量百分比均为1‰～5％。