[发明专利]调节等离子体刻蚀腔内器件温度的装置及其温度调节方法有效
申请号: | 201510602262.X | 申请日: | 2015-09-21 |
公开(公告)号: | CN106548917B | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 雷仲礼;浦远;彭帆 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张妍;张静洁 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 调节 等离子体 刻蚀 器件 温度 装置 及其 方法 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备(上海)有限公司,未经中微半导体设备(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510602262.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:遥控器和电视的配对方法和系统
- 下一篇:视频播放进度的沿用方法、装置以及终端