[发明专利]双栅极沟槽式功率晶体管及其制造方法有效
申请号: | 201510607082.0 | 申请日: | 2015-09-22 |
公开(公告)号: | CN106549056B | 公开(公告)日: | 2019-07-30 |
发明(设计)人: | 李柏贤;林家福;陈家承;林伟捷 | 申请(专利权)人: | 大中积体电路股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/423;H01L21/336;H01L21/28 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 李静;马强 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 栅极 沟槽 功率 晶体管 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】:
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