[发明专利]一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法有效

专利信息
申请号: 201510607501.0 申请日: 2015-09-22
公开(公告)号: CN105177493B 公开(公告)日: 2018-01-16
发明(设计)人: 匡同春;蔡盼盼;李雪萍;谭超林;邓阳;周克崧 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 何淑珍
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 模具 表面 电弧 等离子体 辅助 低压 方法
【权利要求书】:

1.一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)工件为不同前处理状态的H13(4Cr5MoSiV1)经超声波清洗、吹干,置于低压渗氮装置中,依次开启机械泵、分子涡轮泵抽真空至本底真空,加热至300- 600℃,去除真空室内残留物;

2)保持反应炉内温度 300-500℃,反应炉内气压为2.0×10-2 -4.0×10-3 Pa,工件转平台接脉冲电源负极,电弧靶引弧,通氩气,反应炉内气压保持 0.2-1.0Pa,对工件表面进行离子刻蚀 30-60min;所述的工件转平台接脉冲电源负极,负偏压均为300-500V,采用双极脉冲,脉冲频率 10-20kHz,占空比 0.8-1.0;

3)向反应炉内连续通入高纯 N2、高纯 H2 和惰性气体 Ar,保持反应炉内温度和气压恒定,工件转平台接脉冲电源负极,电弧靶电流 80-85A保持恒定,进行 60-120min 等离子渗氮;所述的工件转平台接脉冲电源负极,负偏压均为300-500V,采用双极脉冲,脉冲频率 10-20kHz,占空比 0.8-1.0;所述的 N2 流量为 25-50mL/min,H2 流量为 25-50mL/min,Ar 流量为 80-120 mL/min;所述的温度为 300-500℃,气压为 0.2-1.0Pa;

4)随后开启炉体循环冷却水系统冷却 60-120min,工件在低真空状态下随炉冷却至室温,开启真空炉并取出工件。

2.根据权利要求1所述的一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法,其特征在于,步骤2)所述的电弧靶电流为 80-85A。

3.根据权利要求1所述的一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法,其特征在于,步骤2)所述的氩气流量为 180-200 mL/min。

4.根据权利要求1所述的一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法,其特征在于,步骤2)所述的离子刻蚀是指采用电弧增强辉光放电技术。

5.根据权利要求4所述的一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法,其特征在于,电弧增强辉光放电技术,是通过弧光放电产生高密度电子,电子与通入氩气碰撞,电离出 Ar+,对工件表面进行刻蚀;电弧靶采用 Ti。

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