[发明专利]辊涂机

权利要求书

1.一种利用辊涂机在基板上形成膜的方法，所述方法包括：

在由施涂辊和计量辊形成的间隙中供应涂布流体，

其中所述涂布流体位于储槽中，且包括溶胶-凝胶前体或从溶胶-凝胶前体衍生出的再处理的涂布流体中的至少一种；

在所述施涂辊上形成一层所述涂布流体；

将所述一层涂布流体的的至少一部分从所述施涂辊施转移到所述基板上，从而在所述基板上形成所述膜；

将在所述辊涂机的操作期间产生的过剩流体接收到容器中；

将所述过剩流体从所述容器转移到再循环回路，且在所述再循环回路中处理过剩流体，以形成所述再处理的涂布流体；

其中所述再循环回路包括搅拌系统；

其中所述搅拌系统包括至少两个超声波换能器；

其中处理所述过剩流体包括：利用基于通过所述再循环回路的所述过剩流体的粘度和速度而选择的至少两个不同的频率，而操作所述至少两个超声波换能器；且

其中操作所述至少两个超声波换能器在所述过剩流体中产生一个或多个相位干扰，逆转所述过剩流体的聚合，使得所述流体中没有聚合核，从而形成所述再处理的涂布流体；以及

使所述再处理的涂布流体从所述再循环回路中流出，并进入所述储槽中。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述再循环回路进一步包括温度控制系统；且

在所述再处理的涂布流体离开所述搅拌系统之后，使其流经所述温度控制系统，且利用所述温度控制系统降低所述再循环回路中的所述再处理的涂布流体的温度；

其中降低所述再处理的涂布流体的温度防止当所述再处理的涂布流体在所述再循环回路中时发生额外聚合。

3.根据权利要求2所述的方法，其中降低所述再循环回路中的所述再处理的涂布流体的温度包括将所述再循环回路中的所述再处理的涂布流体的温度降低至所述储槽中的所述涂布流体的温度。

4.根据权利要求2所述的方法，其中在所述再循环回路中处理所述过剩流体进一步包括：通过使经处理的过剩流体流过至少一个过滤单元而过滤所述经处理的过剩流体；

其中所述至少一个过滤单元中的每一过滤单元包括至少一个颗粒过滤装置；

其中所述至少一个颗粒过滤装置位于下列位置之一：

所述搅拌系统与所述温度控制系统之间；

所述温度控制系统与所述储槽之间；或

同时位于所述搅拌系统与所述温度控制系统之间以及所述温度控制系统与所述储槽之间。

5.根据权利要求1所述的方法，其中在所述再循环回路中处理所述过剩流体进一步包括过滤所述经处理的过剩流体。

6.根据权利要求5所述的方法，其中过滤所述经处理的过剩流体包括使经处理的过剩流体流过至少一个过滤单元。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述至少一个过滤单元中的每一过滤单元包括至少一个颗粒过滤装置。

8.根据权利要求1所述的方法，进一步包括在所述基板上固化所述膜。

9.根据权利要求8所述的方法，其中固化所述膜包括热处理、紫外线辐射暴露、或红外线辐射暴露。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述溶胶-凝胶前体包括非牛顿溶胶-凝胶前体。

11.根据权利要求1所述的方法，其中将所述一层所述涂布流体的至少一部分从所述施涂辊施转移到所述基板上包括：利用驱动辊馈送所述基板，使得所述基板穿过所述驱动辊与所述施涂辊之间。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述驱动辊与所述施涂辊以相反的方向旋转。

13.根据权利要求1所述的方法，其中在所述再循环回路中处理所述过剩流体进一步包括移除颗粒物质。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述膜包括二元或三元化合物。

15.根据权利要求1所述的方法，其中所述施涂辊的旋转轴和所述计量辊的旋转轴彼此平行，并被布置成产生所述间隙。

16.根据权利要求1所述的方法，其中位于所述储槽中的所述涂布流体由至少一个导管供应至所述间隙。