[发明专利]工业废水处理系统在审
申请号: | 201510611815.8 | 申请日: | 2015-09-23 |
公开(公告)号: | CN105174546A | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 张安华;徐永平;吴毅彬 | 申请(专利权)人: | 江西中捷工程建设有限公司 |
主分类号: | C02F9/04 | 分类号: | C02F9/04 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 袁步兰 |
地址: | 330002 江西省南*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工业 废水处理 系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种废水处理系统,特别是涉及一种工业废水处理系统。
背景技术
污水处理是为使污水达到排水某一水体或再次使用的水质要求对其进行净化的过程。污水处理被广泛应用于建筑、农业,交通、能源、石化、环保、城市景观、医疗、餐饮等各个领域,也越来越多地走进寻常百姓的日常生活。
工业生产的多样性使产生的排水污染性质也纷繁复杂,如有机污染、无机污染、热污染、色度污染等等。因此,工业废水的处理不能从简单的几个标准就套用别人的工艺和设备,除上述指标外,影响处理的因素还很多,如温度、氨氮含量、pH、含盐量、有毒物质(有机磷)含量、表面活性剂(发泡物质)及染料含量等。
工业废水是污水处理的重要部分,现有工业废水处理系统的结构复杂,成本高,可靠性低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种工业废水处理系统,其提高了工业废水处理的安全性、可靠性和处理效率,装置简单,成本低,方便进行维护。
本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:一种工业废水处理系统,其特征在于,其包括废水池、粗颗粒分离器、加盐器、pH调节池、加药装置、混凝池、第一过滤池、活性炭高效净化器、空压机、沉淀池、压滤机、活性炭回收器、第二过滤池、消毒池和清水池,废水池与粗颗粒分离器连接,加盐器在粗颗粒分离器与pH调节池中间,pH调节池与混凝池中间有个加药装置,混凝池与第一过滤池连接,第一过滤池与活性炭高效净化器相接,活性炭高效净化器外接空压机并与沉淀池相接,沉淀池与第二过滤池连接,压滤机与消毒池都连接第二过滤池,活性炭回收器连接压滤机,清水池与消毒池相接。
优选地,所述加盐器使用的是无机盐。
优选地,所述无机盐为碳酸钠。
优选地,所述加药装置采用无机药剂。
优选地,所述加药装置采用聚合氯化铝、聚合氯化铝铁、硫酸铝、三氯化铁、硫酸亚铁或碳酸钙。
优选地,所述消毒池使用漂白粉进行消毒。
本发明的积极进步效果在于:本发明所述工业废水处理系统增加深度处理步骤,使用活性炭高效净化方法,可以吸附除去有害的有机污染物和重金属离子,使得排出的水为安全、对人体和环境无害的自然水。
附图说明
图1为本发明工业废水处理系统的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图给出本发明较佳实施例,以详细说明本发明的技术方案。
如图1所示,本发明工业废水处理系统包括废水池、粗颗粒分离器、加盐器、pH调节池、加药装置、混凝池、第一过滤池、活性炭高效净化器、空压机、沉淀池、压滤机、活性炭回收器、第二过滤池、消毒池和清水池,其中,废水池与粗颗粒分离器连接,加盐器在粗颗粒分离器与pH调节池中间,pH调节池与混凝池中间有个加药装置,混凝池与第一过滤池连接,第一过滤池与活性炭高效净化器相接,活性炭高效净化器外接空压机并与沉淀池相接,沉淀池与第二过滤池连接,压滤机与消毒池都连接第二过滤池,活性炭回收器连接压滤机,清水池与消毒池相接。所述加盐器使用的是无机盐。所述无机盐为碳酸钠。所述加药装置可以采用无机药剂。所述加药装置可以采用聚合氯化铝、聚合氯化铝铁、硫酸铝、三氯化铁、硫酸亚铁或碳酸钙。所述消毒池可以使用漂白粉进行消毒。
本发明工业废水处理系统的工作原理为:工业废水第一步先将粗颗粒分离出,然后加入无机盐调节水的pH值,使得水的pH值呈碱性,经过pH调节池后加入加药装置,废水在混凝池中与加药装置中的药物充分混合,将水中的微颗粒吸附,而后经过第一过滤池的过滤后再次进入深度处理,即活性炭高效净化器,在活性炭高效净化器上加了空压机,可以使得活性炭充分吸附各种有害物质,经过活性炭高效净化器深度处理后的水分为两部分,第一部分沉淀物通过沉淀池后,通过压滤机回收活性炭,第二部分水则经过消毒池消毒后得到清水,完成了工业废水处理回收循环利用。
本发明所述工业废水处理系统增加深度处理步骤,使用活性炭高效净化方法,可以吸附除去有害的有机污染物和重金属离子,使得排出的水为安全、对人体和环境无害的自然水。
以上所述的具体实施例,对本发明的解决的技术问题、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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