[发明专利]一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置

说明书

本发明的实施例提供一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置，涉及显示技术领域，可形成窄线宽的黑矩阵，提高显示装置的透过率和开口率。该方法包括：在衬底基板上涂覆负性光刻胶形成第一光刻胶层，并在第一光刻胶层上涂覆正性光刻胶，形成第二光刻胶层；对第二光刻胶层的第一区域进行第一次曝光，经第一次显影后，去除第二光刻胶层中第一区域的正性光刻胶，以及第一光刻胶层中第二区域的负性光刻胶，得到第二光刻胶层中保留的第一光刻胶图案和第一光刻胶层中保留的第二光刻胶图案；对第一光刻胶图案和第二光刻胶图案进行第二次曝光，经第二次显影后，去除第一光刻胶图案，保留第二光刻胶图案。该方法可应用于彩色滤光片的制作过程中。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置。

背景技术

彩色滤光片(color filter)为液晶显示器的彩色化关键组件，通过彩色滤光片的处理，可将LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)背光模块发射的强光呈现出彩色的画面。彩色滤光片的制作是在玻璃基板上制作网格排布的黑矩阵，进而将红、绿、蓝三原色的色阻依序排列在黑矩阵所限定的像素单元内。

在制作黑矩阵时，如图1所示，通常在玻璃基板01上涂覆黑色光刻胶形成光刻胶层02，然后，如图2所示，使用掩膜版03对光刻胶层02进行曝光、显影等工艺，最终，如图3所示，得到保留在玻璃基板01上的黑矩阵04。

目前，一般制作的黑矩阵的线宽在5um左右，线宽再小时，黑矩阵光刻胶直接与显影液发生大面积接触式的反应，容易发生膜层脱落，或边沿不齐等不良，而随着高PPI(Pixels Per Inch，表示每英寸所拥有的像素数目)产品的飞速发展，线宽5um的黑矩阵已经无法满足LCD产品对透过率和开口率的要求，因此，如何制作窄线宽的黑矩阵图形已成为亟需解决的问题。

发明内容

本发明的实施例提供一种光刻胶图案的制作方法、彩色滤光片及显示装置，可形成窄线宽的黑矩阵，进一步可提高显示装置的透过率和开口率。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明的实施例提供一种光刻胶图案的制作方法，包括：

在衬底基板上涂覆负性光刻胶形成第一光刻胶层，并在所述第一光刻胶层上涂覆正性光刻胶，形成第二光刻胶层；

对所述第二光刻胶层的第一区域进行第一次曝光，经第一次显影后，去除所述第二光刻胶层中第一区域的正性光刻胶，以及所述第一光刻胶层中第二区域的负性光刻胶，得到所述第二光刻胶层中保留的第一光刻胶图案和所述第一光刻胶层中保留的第二光刻胶图案，其中，所述第一光刻胶图案的线宽大于所述第二光刻胶图案的线宽，所述第一区域在所述衬底基板上的投影位于所述第二区域在所述衬底基板上的投影内；

对所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案进行第二次曝光，经第二次显影后，去除所述第一光刻胶图案，保留所述第二光刻胶图案。

进一步地，在衬底基板上依次涂覆负性光刻胶和正性光刻胶，形成第一光刻胶层和所述第一光刻胶层上的第二光刻胶层；

对所述第二光刻胶层的第一区域进行第一次曝光，经第一次显影后，去除所述第二光刻胶层中第一区域的正性光刻胶，以及所述第一光刻胶层中第二区域的负性光刻胶，得到所述第二光刻胶层中保留的第一光刻胶图案和所述第一光刻胶层中保留的第二光刻胶图案，所述第一光刻胶图案的线宽大于所述第二光刻胶图案的线宽；

对所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案进行第二次曝光，经第二次显影后，去除所述第一光刻胶图案，保留所述第二光刻胶图案。

进一步地，使用掩膜版对所述第二光刻胶层进行第一次曝光，包括：

采用所述遮光区域的线宽为预设线宽的掩膜版，对所述第二光刻胶层进行第一次曝光，