[发明专利]基板、膜形成基板的制造方法以及涂布装置有效
申请号: | 201510622698.5 | 申请日: | 2015-09-25 |
公开(公告)号: | CN105467685B | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 西中胜喜;梶原慎二 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子装置株式会社 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 陶敏;臧建明 |
地址: | 日本神奈川县横*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板 形成 制造 方法 以及 装置 | ||
1.一种基板,形成有沿着膜形成区域的外周的凹槽,所述基板的特征在于:
在所述凹槽与所述膜形成区域之间,包含并列有多个凹部的凹部群,并且
所述凹部是顶角为锐角的等腰三角形,以所述等腰三角形的底边与所述凹槽的延伸方向平行且位于所述凹槽侧的方式配置。
2.根据权利要求1所述的基板,其特征在于:所述凹槽形成凹槽群,所述凹槽群以形成为相互隔开的多重的方式设于所述膜形成区域的外周,且距所述膜形成区域的外周越远的外侧的凹槽的槽宽越小。
3.一种膜形成基板的制造方法,其特征在于:使用根据权利要求1或2所述的基板,在所述基板的所述膜形成区域滴下并涂布作为膜形成材料的液体的液滴。
4.根据权利要求3所述的膜形成基板的制造方法,其特征在于:所述液体的液滴在滴下至所述凹槽之后,滴下至所述膜形成区域。
5.一种膜形成基板的涂布装置,用于根据权利要求3所述的膜形成基板的制造方法,且涂布要形成于所述基板上的膜,所述膜形成基板的涂布装置的特征在于包含:
涂布头,所述涂布头对所述基板的所述膜形成区域滴下液体;以及
控制装置,所述控制装置以将所述液体的液滴在滴下至所述凹槽之后滴下至所述膜形成区域的方式,对所述涂布头进行控制。
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