[发明专利]具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统和方法

权利要求书

1.一种具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统，其特征在于包括：

激光发生器，用于产生照射在第一反射镜上的激光；

第一反射镜，用于把入射激光反射至微型反射镜阵列；

反射镜阵列，用于调整每一个微小反射镜单元倾斜特定角度，使得入射激光经反射镜阵列后形成瞳面形状；

分光部件，用于把已经成瞳面形状的激光的第一部分投射到瞳面质量监测元件上，并且用于把已经成瞳面形状的激光的第二部分被第二反射镜反射；

瞳面质量监测元件，用于获取的光强数值来获取完整瞳面信息，并且将获取的光强数值来获取完整瞳面信息传递给第一计算单元和第二计算单元；

第一计算单元，用于根据接收的瞳面信息来判断是否需要调整反射镜阵列；

第二计算单元，用于根据接收的瞳面信息来进行计算处理以得到反射镜阵列中每一个微型反射镜单元所需要调整的角度，然后反馈给反射镜阵列；

反射镜阵列调整单元，用于根据所述所需要调整的角度进行角度调整以校准瞳面。

2.根据权利要求1所述的具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统，其特征在于，分光部件是分光镜。

3.根据权利要求1或2所述的具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统，其特征在于，分光部件是半透镜。

4.根据权利要求1或2所述的具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统，其特征在于，所述瞳面质量监测元件是点阵光强侦测元件。

5.根据权利要求1或2所述的具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统，其特征在于，所述瞳面质量监测元件是感光阵列传感器。

6.根据权利要求1或2所述的具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统，其特征在于，反射镜阵列是平面型微电机系统元件，而且反射镜阵列的阵列格点个数至少为64X64，并且每个格点尺寸小于6umX6um。

7.根据权利要求1或2所述的具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明系统，其特征在于，所述已经成瞳面形状的激光的第一部分与第二部分之比为1％：99％。

8.一种具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明方法，其特征在于包括：

将激光发生器产生的激光照射在第一反射镜上，由第一反射镜把入射激光反射至微型反射镜阵列；

操控反射镜阵列，调整每一个微小反射镜单元倾斜特定角度，使得入射激光经反射镜阵列后形成瞳面形状；

通过分光部件把已经成瞳面形状的激光的第一部分投射到瞳面质量监测元件上，并且通过瞳面质量监测元件获取的光强数值来获取完整瞳面信息，从而判断是否需要调整反射镜阵列；

如果判定不需要调整反射镜阵列，则使得已经成瞳面形状的激光的第二部分被第二反射镜反射以进入后续光路进行后续调整，然后进入曝光系统；

如果判定需要调整反射镜阵列，则将测量到的瞳面质量信息经过计算处理得到反射镜阵列中每一个微型反射镜单元所需要调整的角度，然后反馈给反射镜阵列，并且射镜阵列根据所述所需要调整的角度进行角度调整以校准瞳面。

9.根据权利要求8所述的具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明方法，其特征在于，分光部件是分光镜或半透镜。

10.根据权利要求8或9所述的具有瞳面质量监测和校准功能的光刻机照明方法，其特征在于，所述已经成瞳面形状的激光的第一部分与第二部分之比为1％：99％。