[发明专利]一种氮化硼纳米片/四氧化三铁磁性纳米复合材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510628113.0 申请日: 2015-09-28
公开(公告)号: CN105197899B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 矫维成;袁凤;王荣国;刘文博;杨帆;郝立峰;徐忠海;赫晓东 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C01B21/064 分类号: C01B21/064;B82Y30/00
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所23109 代理人: 侯静
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 氮化 纳米 氧化 铁磁性 复合材料 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种纳米复合材料的制备方法。

背景技术

随着石墨烯研究热潮的发展,具有类似石墨烯片层结构的二维纳米材料—氮化硼纳米片也得到了科研界越来越多的关注。氮化硼纳米片具有非常优异的抗氧化性、抗化学腐蚀性、耐高温、高热导率、宽带隙等物理化学性能。此外,在高功率、高频、防辐射及光电子等方面,氮化硼纳米片也存在着巨大的应用潜力。然而,与石墨烯相比,氮化硼片层间除了有共价键作用外,还有离子键的作用,这导致采用传统的方法很难将之剥离。有限的制备方法,极大地限制了氮化硼纳米片的研究与应用。

另外,通过功能化、掺杂或表面负载纳米粒子等方法来进一步提高氮化硼纳米片的应用性能,也是目前氮化硼纳米片的研究所面临的一个挑战性的问题。在氮化硼纳米片表面负载磁性纳米粒子,可以充分发挥氮化硼纳米片和磁性纳米粒子的优异性能,并在协同作用下,使性能得到进一步的优化。所得的磁性复合粒子,不仅可以用于传感器、吸波材料等领域,还可以用于磁定向排列的功能复合的制备。

磁性四氧化三铁纳米粒催化活性高、耐候性强、化学性质稳定,被成功应用于磁性记录、催化剂、生物传感、染料等众多领域,是研究与应用最广泛的磁性纳米材料之一。目前,在石墨烯表面接枝四氧化三铁纳米磁性粒子,已经得到的广泛的研究,但涉及的方法都比较复杂,即需要高温加热,又需要惰性气体保护,这无疑增加了能耗,提高了反应成本。另外,氮化硼纳米片表面负载四氧化三铁纳米磁性粒子的研究至今还未见报告,为此,本发明首先对氮化硼进行了有效的剥离,并提出了一种便捷的,在氮化硼纳米片表面直接原位负载四氧化三铁纳米磁性粒子的方法。本发明可应用在微结构有序复合材料的制备、仿生复合材料设计等,也可以作为增强体,应用于复合材料螺旋桨表面微结构设计、强韧化改性等方面。

发明内容

本发明的目的在于提供一种氮化硼纳米片/四氧化三铁磁性纳米复合材料的制备方法。

本发明的一种氮化硼纳米片/四氧化三铁磁性纳米复合材料的制备方法是按以下步骤进行:

一、将1g~6g的六方氮化硼粉末,分散于100mL~400mL的混酸中,在温度为50℃~100℃,转速为1000rpm~1500rpm下,连续搅拌10h~60h,得到的混合物,然后用去离子水将混合物洗涤至中性,然后置于80℃~100℃下干燥,得到插层氮化硼;其中,所述的混酸由质量浓度为98%的浓H2SO4和质量浓度为95%的浓HNO3按体积比为1~3:1组成;

二、将步骤一得到的0.1g~1.5g的插层氮化硼,分散于50mL~200mL的异丙醇中,室温下,超声处理5h~20h,然后于转速为1500rpm~6000rpm下离心分离15min~50min,取上层清液,并用去离子水洗涤至中性,将产物置于80℃~100℃下干燥,得到氮化硼纳米片;

三、将步骤二得到的氮化硼纳米片分散于去离子水中,置于超声清洗器中在赫兹为60kHz~80kHz,功率180W~200W下超声处理2h~8h,然后加入FeCl2·4H2O,继续超声处理0.5h~1h,得到氮化硼纳米片分散液;其中,所述的步骤二得到的氮化硼纳米片的质量与去离子水的体积比为(0.001~0.02)g:1mL;所述的步骤二得到的氮化硼纳米片与FeCl2·4H2O的质量比为1:(0.5~4);

四、在转速为1000rpm~2000rpm下,向步骤三得到的氮化硼纳米片分散液中缓慢滴加5mL~20mL的浓度为5mg/mL的NaOH水溶液,然后再滴加质量浓度为5.0mg/mL的H2O2水溶液,当溶液由灰蓝色转变为黑色时,停止滴加,再超声处理5min~30min,室温下,将反应液静置1h~2h,进行磁分离,将产物分别用去离子水清洗2~4次,无水乙醇清洗2~5次,最后置于80℃~100℃的真空烘箱中进行干燥,得到氮化硼纳米片/四氧化三铁磁性纳米复合材料。

本发明包括以下有益效果:

1、本发明制备工艺简单,不需要高温加热、惰性气体保护等耗能过程;而且具有环保、高效的优点。

2、负载在氮化硼纳米片表面的四氧化三铁纳米粒子的粒径小而均匀,而且结构稳定、分散均匀、磁响应强。通过改变反应物的用量比,可以调控四氧化三铁纳米粒子在氮化硼纳米片表面的负载量,并且可以控制四氧化三铁纳米粒子的粒径。

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