[发明专利]一种用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统

权利要求书

1.一种用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统，其特征在于：该系统包括温度监控模块、温度处理控制模块和温度控制执行模块；

所述温度监控模块，用于实时采集曝光光源内部工作温度，并将所述曝光光源内部工作温度的测量值输出至温度处理控制模块；

所述温度处理控制模块，用于根据预设的曝光光源内部工作温度的目标基准值及其允许误差范围，对所述曝光光源内部工作温度的测量值进行处理，并根据处理结果输出控制信号至温度控制执行模块；

所述温度控制执行模块，用于根据所述温度处理控制模块发送的控制信号对曝光光源内部工作温度进行控制；

所述温度控制执行模块包括第一散热片、第一导热硅脂、珀尔帖效应元件、第二导热硅脂和第二散热片，所述第一散热片、第一导热硅脂和珀尔帖效应元件集成于曝光光源内部，所述第二导热硅脂和第二散热片设置在曝光光源外部；所述第一散热片通过第一导热硅脂连接珀尔帖效应元件的制冷端，所述珀尔帖效应元件的散热端通过第二导热硅脂连接第二散热片，所述珀尔帖效应元件的电流控制端连接温度处理控制模块的控制输出端。

2.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统，其特征在于：该系统还包括温度控制状态显示模块；所述温度控制状态显示模块，用于根据温度处理控制模块对曝光光源内部工作温度测量值的处理结果，显示曝光光源内部工作温度的实时状态。

3.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统，其特征在于：该系统还包括温度控制管理模块；所述温度控制管理模块用于对温度处理控制模块实时反馈的曝光光源内部工作温度数据进行存储和处理，并且当曝光光源无法满足曝光要求时，通过温度处理控制模块对曝光光源内部工作温度的目标基准值进行调整。

4.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统，其特征在于：所述温度监控模块主要由温度传感器构成，所述温度传感器集成于曝光光源内部。

5.根据权利要求1所述的用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统，其特征在于：所述温度处理控制模块包括A/D转换器、数据处理单元和温度控制执行驱动端口，所述A/D转换器的输入端连接温度监控模块的输出端，所述A/D转换器的输出端连接数据处理单元的输入端，所述数据处理单元的输出端通过温度控制执行驱动端口连接温度控制执行模块的输入端；

所述数据处理单元，用于实时判断曝光光源内部工作温度的测量值是否超出目标基准值的允许误差范围，若未超出范围，则通过温度控制执行驱动端口控制温度控制执行模块停止工作，若超出范围且低于目标允许最小值，则通过温度控制执行驱动端口控制温度控制执行模块停止工作，若超出范围且高于目标允许最大值，则通过温度控制执行驱动端口控制温度控制执行模块开始工作。

6.根据权利要求2所述的用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统，其特征在于：所述温度控制状态显示模块包括温度状态LED显示模块和温度异常蜂鸣报警模块。

7.根据权利要求3所述的用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统，其特征在于：所述温度控制管理模块包括通信模块和上位机；

所述通信模块，用于将温度处理控制模块实时反馈的曝光光源内部工作温度数据发送至上位机，还用于将上位机生成的曝光光源内部工作温度的目标基准值调整信号发送至温度处理控制模块；

所述上位机，用于对曝光光源内部工作温度数据进行统计，形成工作日志并存储；还用于当曝光光源内部工作温度正常但曝光光源已无法满足曝光要求时，通过通信模块向温度处理控制模块发送曝光光源内部工作温度的目标基准值调整信号。