[发明专利]一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法

权利要求书

1.一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法，其特征在于，该配方体系包括：环氧丙烯酸酯5%-20%、紫外光引发剂1%-5%、乙二醇单异丙基醚30%-70%、活性稀释剂10%-15%、表面活性剂10%-20%、有机硅杂化材料5%-10%、其他微量助剂0.5%-2%。

2.如权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法，其特征在于，配方中选用一款低粘度、弹性好和高活性的环氧丙烯酸酯，粘度600-1200mPa.s，它可以用HDDA、TMPTA、TPGDA等单体或酯、酮和芳香烃稀释，可以与很多活性丙烯酸树脂混溶。

3.如权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法，其特征在于，该配方选用乙二醇单异丙基醚做溶剂，该溶剂和本发明所选用的环氧丙稀释酯具有良好的配伍性。

4.如权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法，其特征在于，在体系中含氟表面活性剂和有机硅杂化材料的加入能有效的降低体系的表面张力和提高固化后膜的抗刻蚀性能。

5.如权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法，其特征在于，由于该光刻胶具有低的表面张力和高的抗刻蚀性能，该光刻胶在光聚合过程中具有碳碳双键转化高和氧阻聚率低的性能，能得到高分辨率的纳米图案。

6.如权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法，其特征在于，配方中选用反应性的非反应性的两种乙二醇单异丙基醚混合使用作为溶剂，有效改善光刻胶固化后的粘接强度、硬度、柔韧性、光学性能和耐老化性能。

7.如权利要求1所述的一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法，其特征在于，该方法包括以下工艺步骤：在完全过滤掉紫外光的生产条件下，先往反应釜中加入乙二醇单异丙基醚30%-70%，打开搅拌器，以80转/分钟的转速搅拌，在搅拌状态下加入活性稀释剂10%-15%、环氧丙烯酸酯5%-20%，3分钟后加入紫外光引发剂1%-5%，直至光引发剂完全溶解后加入表面活性剂10%-20%、有机硅杂化材料5%-10%和其他微量助剂0.5%-2%，5分钟后用2000目滤网过滤得成品。