[发明专利]电纺多孔纳米纤维基质微图案印章支架材料及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种电纺多孔纳米纤维基质微图案印章支架材料，其特征在于：包括有通过静电纺丝工艺制备的多孔纳米纤维基质、以及通过微接触印刷工艺无缝接触粘附设置于多孔纳米纤维基质上的细胞外基质蛋白图案层，该多孔纳米纤维基质中的纳米纤维的取向相互平行一致，纳米纤维直径是500±80nm，多孔纳米纤维基质厚度是80微米，细胞外基质蛋白图案层的形状为条带状，带宽20微米，间隔150微米，所述的多孔纳米纤维基质的材质为聚L-丙交酯-己内酯（PLCL）聚合物。

2.一种制备如权利要求1所述的电纺多孔纳米纤维基质微图案印章支架材料的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

（1）将聚L-丙交酯-己内酯（PLCL）聚合物溶于二氯甲烷和N,N-二甲基甲酰胺混合溶液制得PLCL高聚物溶液，然后将PLCL高聚物溶液用静电纺丝工艺制备均一的多孔纳米纤维基质；

（2）将刻有图案的聚二甲基硅氧烷（PDMS）印章的印章表面在细胞外基质（ECM）蛋白溶液浸润温育至少一小时，再用高压高纯氮气吹干；然后将聚二甲基硅氧烷（PDMS）印章与多孔纳米纤维基质室温下无缝接触，得到印有纤维连接蛋白条状结构的细胞外基质蛋白图案层的电纺多孔纳米纤维基质微图案印章支架材料。

3.根据权利要求2所述的一种电纺多孔纳米纤维基质微图案印章支架材料的制备方法，其特征在于：聚二甲基硅氧烷（PDMS）印章上的图案是通过光刻法加工。

4.根据权利要求2所述的电纺多孔纳米纤维基质微图案印章支架材料的制备方法，其特征在于：步骤（1）中，用静电纺丝工艺的旋转收集器装置的转速是1000-1500rmp，喷嘴与收集器之间的距离是10-15cm，聚合物溶液的流速是0.8-1.2 ml/h，电压12-18kV。

5.根据权利要求2所述的电纺多孔纳米纤维基质微图案印章支架材料的制备方法，其特征在于：所述的细胞外基质蛋白图案层中的细胞外基质（ECM）蛋白的取向与多孔纳米纤维基质中的纳米纤维的取向相平行或者相交。

6.一种如权利要求1所述的电纺多孔纳米纤维基质微图案印章支架材料的用途，其特征在于：在无任何的生物化学诱导因子的存在下，将电纺多孔纳米纤维基质微图案印章支架材料作为促进人骨髓间充质干细胞分化为神经系细胞的支架材料。