[发明专利]用于切削工具的多层结构化涂层有效

专利信息
申请号: 201510638849.6 申请日: 2015-09-29
公开(公告)号: CN105463456B 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 刘振宇;P·R·莱希特;刘一雄 申请(专利权)人: 钴碳化钨硬质合金公司
主分类号: C23C28/04 分类号: C23C28/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 葛青;卢亚静
地址: 美国宾*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 切削 工具 多层 结构 涂层
【权利要求书】:

1.一种带涂层的切削工具,包括:

基底;和

涂层,所述涂层包括多个交替层,所述多个交替层包括Al2O3的第一CVD层和MeAl2O3/MeO2复合物的第二CVD层;

其中Me为Zr、Hf、Ti或它们的组合,并且MeO2沉积物位于涂层晶粒边界内。

2.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,其中所述第一CVD层或第二CVD层为0.05~0.5微米厚。

3.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,其中所述第一CVD层和所述第二CVD层各自为0.05~0.5微米厚。

4.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,其中所述第一CVD层和所述第二CVD层各自小于或等于0.015微米。

5.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,所述第一CVD层包含α-Al2O3κ-Al2O3或它们的组合。

6.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,其中所述第二CVD层比所述第一CVD层更接近所述基底。

7.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,其中所述第一CVD层比所述第二CVD层更接近所述基底。

8.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,其中所述第一CVD层和第二CVD层的交替在所述涂层的单个晶粒内引起超晶格样结构的形成。

9.根据权利要求3所述的带涂层的切削工具,其中所述基底和所述第一CVD层之间的中间层包含选自由铝及周期表的IVB、VB和VIB族的金属元素构成的组的一种或多种金属元素以及周期表的IIIA、IVA、VA和VIA族的一种或多种非金属元素。

10.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,其中所述涂层还包括与所述基底表面相邻的基层。

11.根据权利要求8所述的带涂层的切削工具,其中所述交替CVD涂层在晶粒内具有人字形形状。

12.根据权利要求10所述的带涂层的切削工具,其中所述基层包含TiN、MT-TiCN和TiOCN中的至少一者。

13.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,其中所述涂层还包括最外层,所述最外层包含选自由铝及周期表的IVB、VB和VIB族的金属元素构成的组的一种或多种金属元素以及周期表的IIIA、IVA、VA和VIA族的一种或多种非金属元素。

14.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,其中所述Me以重量%存在并且所述重量%在两个或更多个第二层之间变化。

15.根据权利要求1所述的带涂层的切削工具,其中所述Me以梯度方式引入第二层以及从第二层移除。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于钴碳化钨硬质合金公司,未经钴碳化钨硬质合金公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510638849.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top