[发明专利]光掩模的制造方法、转印方法及平板显示器的制造方法

权利要求书

1.一种光掩模的制造方法，该光掩模具备将下层膜图案与上层膜图案层叠地设置在透明基板上而得到的转印用图案，所述下层膜图案与上层膜图案是分别对曝光光透过率彼此不同的下层膜和上层膜进行构图而成的，所述光掩模的制造方法的特征在于，具备以下工序：

准备光掩模坯体的工序，该光掩模坯体是在所述透明基板上层叠由彼此具有蚀刻选择性的材料构成的所述下层膜和所述上层膜，进而形成了第1抗蚀剂膜而得到的；

通过对所述第1抗蚀剂膜进行第1描绘而形成第1抗蚀剂图案的工序，该第1抗蚀剂图案用于形成所述上层膜图案和划定所述下层膜图案的区域的暂定图案；

将所述第1抗蚀剂图案作为掩模，对所述上层膜进行蚀刻的第1蚀刻工序；

在包括所形成的所述上层膜图案和所述暂定图案的整个面上形成第2抗蚀剂膜的工序；

通过对所述第2抗蚀剂膜进行第2描绘而形成第2抗蚀剂图案的工序，该第2抗蚀剂图案用于形成所述下层膜图案；

将所述暂定图案和所述第2抗蚀剂图案作为掩模，对所述下层膜进行蚀刻的第2蚀刻工序；以及

将所述第2抗蚀剂图案作为掩模，蚀刻去除所述暂定图案的第3蚀刻工序；

在形成所述第2抗蚀剂图案的工序中，以使所述暂定图案的一部分从所述第2抗蚀剂图案的边缘露出的方式，进行所述第2描绘，

所述暂定图案为如下这样的尺寸：在进行所述第2描绘时，即使在所述第1描绘与所述第2描绘之间产生有相对的位置偏差，所述暂定图案的一部分也会从所述第2抗蚀剂图案的边缘露出。

2.根据权利要求1所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

在蚀刻去除所述暂定图案的工序中，针对从所述第2抗蚀剂图案的边缘露出了一部分的状态的所述暂定图案，实施湿蚀刻。

3.根据权利要求1或者2所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

所述暂定图案的宽度是2μm以下。

4.根据权利要求1或者2所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

所述转印用图案是孔图案或者点图案。

5.根据权利要求1或者2所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

所述转印用图案是线与间隙图案。

6.根据权利要求2所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

在形成所述第2抗蚀剂图案的工序中，以使所述暂定图案的边缘以0.1μm～1.0μm的宽度露出的方式，进行所述第2描绘。

7.一种图案转印方法，其特征在于，具有以下工序：

使用由权利要求1或2所述的制造方法获得的光掩模，将所述转印用图案转印到被转印体上。

8.一种平板显示器的制造方法，其特征在于，

该制造方法使用了权利要求7所述的图案转印方法。