[发明专利]一种深硅刻蚀方法有效
| 申请号： | 201510646129.4 | 申请日： | 2015-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN106564855B | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 李成强 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 方法 | ||
【权利要求书】：
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