[发明专利]一种立体瓷片及其制备方法有效
申请号: | 201510646582.5 | 申请日: | 2015-09-30 |
公开(公告)号: | CN105201171B | 公开(公告)日: | 2017-11-10 |
发明(设计)人: | 祁国亮;徐由强;周燕 | 申请(专利权)人: | 佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;淄博卡普尔陶瓷有限公司;佛山东华盛昌新材料有限公司 |
主分类号: | E04F13/077 | 分类号: | E04F13/077;B32B18/00;B32B33/00;B32B7/02;B32B37/02;B32B38/14;C04B41/86;C04B41/89 |
代理公司: | 佛山市禾才知识产权代理有限公司44379 | 代理人: | 梁永健 |
地址: | 528031 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 立体 瓷片 及其 制备 方法 | ||
1.一种立体瓷片,其特征在于:从下到上依次包括坯体层、底釉层和立体装饰层组,所述立体装饰层组至少设置有两组,所述立体装饰层组从下到上依次包括印花装饰层和立体透视层;
所述底釉层和所述立体装饰层组之间还设置有隔水增白中间层;
所述隔水增白中间层的釉料配方包括以下质量分数的原料:半不透底釉80-100%和硅渣0-20%,其中硅渣是指高铝粉煤灰提铝之后的剩余部分。
2.根据权利要求1所述的一种立体瓷片,其特征在于:所述隔水增白中间层的吸水率小于0.5%。
3.根据权利要求1所述的一种立体瓷片,其特征在于:所述半不透明釉为透光率在10-30%的半不透明釉。
4.根据权利要求1所述的一种立体瓷片,其特征在于:所述底釉层底釉的吸水率为4-9%。
5.权利要求1所述的一种立体瓷片的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
A、通过陶瓷粉料的压制获得坯体,并在1050-1080℃下素烧获得的素坯为坯体层,其出窑坯温在80-110℃;
B、在坯体层表面先喷水润湿后再淋底釉,获得底釉层;
C、在底釉层上淋一层隔水增白釉,或使用丝网版印一层隔水增白釉,获得隔水增白中间层;
D、在隔水增白中间层的表面依次印刷印花装饰层和立体透视层,获得一组立体装饰层组;
E、根据所需的立体装饰层组的数量重复步骤D,最终烧成获得成品。
6.根据权利要求5所述的一种立体瓷片的制备方法,其特征在于:步骤D中的印花装饰层采用丝网、胶辊或喷墨喷印获得。
7.根据权利要求5所述的一种立体瓷片的制备方法,其特征在于:步骤D中的立体透视层采用32T-68T全透网版或用喷墨打印机。
8.根据权利要求5所述的一种立体瓷片的制备方法,其特征在于:所述隔水增白中间层与最后印刷的所述立体透视层的温度差不高于20℃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;淄博卡普尔陶瓷有限公司;佛山东华盛昌新材料有限公司,未经佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;淄博卡普尔陶瓷有限公司;佛山东华盛昌新材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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