[发明专利]用于触摸屏制造的刻蚀胶带及其制备方法、刻蚀方法有效
申请号: | 201510647122.4 | 申请日: | 2015-10-08 |
公开(公告)号: | CN105255376B | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 王静;谢晓冬;何敏;张明 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | C09J7/20 | 分类号: | C09J7/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 刻蚀 胶带 触摸屏制造 制备 功能层 蚀刻膏 基材 材料形成 第一区域 刻蚀区域 显示装置 稼动率 产线 生产成本 改进 环保 制造 | ||
本发明公开了一种用于触摸屏制造的刻蚀胶带及其制备方法、刻蚀方法,涉及显示装置制造领域,能够解决了现有刻蚀方法浪费蚀刻膏、生产成本高、不环保、产线稼动率低的问题。本发明用于刻蚀的胶带,包括基材和设置于所述基材上的功能层,所述功能层包括:与待刻蚀区域相对应的第一区域,由包括蚀刻膏的材料形成。本发明提供的用于触摸屏制造的刻蚀胶带及其制备方法、刻蚀方法,用于改进刻蚀方法。
技术领域
本发明涉及显示领域,尤其涉及一种用于触摸屏制造的刻蚀胶带及其制备方法、刻蚀方法。
背景技术
触摸屏作为一种特殊的计算机外设,它是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式;它赋予了多媒体以崭新的面貌,是极富吸引力的全新多媒体交互设备。
目前各大厂家在生产触摸屏的时候,会在ITO(Indium Tin Oxide,氧化铟锡)面上镀整层的二氧化硅和氮氧化硅的镀层,以达到消影、绝缘、保护的作用。在贴合柔性电路板(Flexible Printed Circuit,FPC)之前,需要将贴合FPC的区域即(绑定区/bonding区)的氮氧化硅层去除掉。但目前大多数厂家采用的去除方法是将蚀刻膏油墨稍稍搅拌均匀后倒至丝网印刷台面,蚀刻油墨丝印后采用自来水喷淋方式对与之接触的器具进行清洗,此种方法不仅在使用过程中浪费较大剂量的蚀刻膏,并使用了网版等耗材,加大了生产成本、降低了产线的稼动率。
发明内容
本发明的实施例提供一种用于触摸屏制造的刻蚀胶带及其制备方法、刻蚀方法,解决了现有刻蚀方法浪费蚀刻膏、生产成本高、不环保、产线稼动率低的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
本发明的实施例提供一种用于触摸屏制造的刻蚀胶带,所述胶带包括基材和设置于所述基材上的功能层,所述功能层包括:与待刻蚀区域相对应的第一区域,由包括蚀刻膏的材料形成。
所述第一区域的形成材料包括:蚀刻膏和胶材。
所述胶带用于刻蚀覆于触摸显示装置绑定区的氮氧化硅薄膜;所述第一区域与所述绑定区的待刻蚀区域相匹配。
所述蚀刻膏包括消泡剂、增稠剂、水、酸类和氟化物混合制成的固态膏体。
所述胶材为树脂胶粘剂。
所述胶带,还包括:除所述第一区域之外的第二区域,所述第二区域由胶性材料涂敷而成。
本发明的实施例还提供一种用于触摸屏制造的刻蚀胶带的制备方法,包括:在基材上与待刻蚀区域相对应第一区域由涂敷包括蚀刻膏的材料;除所述第一区域之外的第二区域保留空白,或者涂敷胶性材料。
所述胶带用于刻蚀覆于触摸显示装置绑定区的氮氧化硅薄膜时,所述第一区域与所述绑定区的待刻蚀区域相匹配,所述制备方法包括:制备蚀刻膏:将消泡剂、增稠剂、水、酸类和氟化物进行混合,室温下搅拌均匀;将胶材加入上述蚀刻膏中与其充分混合做成膏状混合物,再将所述膏状混合物压附在所述基材上的第一区域,制成用于刻蚀的胶带。
本发明的实施例还提供一种刻蚀方法,使用了任一项所述的胶带。
所述刻蚀方法,包括:进行对位贴附,使所述胶带的第一区域与待刻蚀区域相对应,经过预设时间后将所述胶带撕除;撕除胶带后,用纯水进行冲洗,或者用其它方式进行清洗。
本发明提供一种用于触摸屏制造的刻蚀胶带及其制备方法、刻蚀方法,所述胶带上设置有与待刻蚀区域相对应第一区域,由包括蚀刻膏的材料形成,刻蚀时将胶带的第一区域与待刻蚀区域相对应,经过预设时间后将胶带撕除,待刻蚀区域的待刻蚀膜层随之去除,蚀刻精度高,蚀刻膏用量相对较少,并能减少了网版等耗材的使用,大大降低了制作成本,节约了产品制作周期,并且免去大量的人力浪费,提高产品良率的同时降低生产成本。
附图说明
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