[发明专利]一种塔式气液接触设备均匀布气装置及其用途

权利要求书

1.一种塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述装置包括圆筒形塔体(1)和设置于塔体底部的2个以上同轴空心圆筒(3)，各空心圆筒(3)以圆筒形塔体(1)的中心轴线为轴，且各空心圆筒(3)的内径和长度均不相等，相邻两个空心圆筒(3)之间留有空隙；各空心圆筒(3)底部设置有倒锥形封闭板(9)，封闭板(9)上设置有排液管(4)；圆筒形塔体(1)的底部设置有布气盘(2)，布气盘(2)上有开孔，布气盘(2)的基体与空心圆筒(3)上端密封连接；每个空心圆筒(3)的筒壁下方设有进气口(11)。

2.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述空心圆筒(3)的内径沿圆筒形塔体(1)横截面的径向由内向外逐渐增大；

优选地，所述空心圆筒(3)的上端均与布气盘(2)的基体连接，空心圆筒(3)的长度沿圆筒形塔体(1)横截面的径向由内向外逐渐变短；

优选地，所述空心圆筒(3)的个数为2～100个，进一步优选为3～30个。

3.根据权利要求1或2所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，各空心圆筒(3)底部与倒锥形封闭板(9)密封连接；

优选地，所述空心圆筒(3)中内径最小的空心圆筒(3)与其底部的倒锥形封闭板(9)之间形成中心圆筒空腔(8)；空心圆筒(3)中除内径最小的空心圆筒(3)外的其他空心圆筒(3)与其底部的倒锥形封闭板(9)之间形成同轴圆环空腔(7)；

优选地，所述中心圆筒空腔(8)以及各圆环空腔(7)之间互不连通；

优选地，所述中心圆筒空腔(8)以及各圆环空腔(7)均单独与进气口(11)连通。

4.根据权利要求1-3任一项所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆筒形塔体(1)的底部水平设置有布气盘(2)；

优选地，所述布气盘(2)的厚度为2～20mm，进一步优选为10mm；

优选地，所述布气盘(2)的直径与圆筒形塔体(1)的内径相等；

优选地，所述布气盘(2)上的开孔的孔眼的总面积占布气盘(2)基体总面积的5～80％，优选为10～30％，进一步优选为20％；

优选地，所述布气盘(2)上的每个开孔的孔径为0.1～5mm，优选为1～4mm，进一步优选为2mm。

5.根据权利要求1-4任一项所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述布气盘(2)上的开孔中垂直插入圆直管，圆直管贯穿布气盘(2)的基体并与中心圆筒空腔(8)以及各圆环空腔(7)相连通；

优选地，所述圆直管的上端口高于布气盘(2)的上端平面；

优选地，所述圆直管的上端口高于布气盘(2)的上端平面0.1～20mm，优选为3～10mm，进一步优选为5mm；

优选地，所述圆直管的外壁与布气盘(2)上开孔的孔眼内壁紧密相连。

6.根据权利要求1-5任一项所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，每个空心圆筒(3)的筒壁下方设有进气口(11)；

优选地，所述空心圆筒(3)中内层空心圆筒(3)的进气口位置低于其相邻外层空心圆筒(3)的进气口位置；

优选地，所述空心圆筒(3)的筒壁上的进气口(11)与进气管相(6)连通；

优选地，所述进气管(6)上设置有气体调节器(5)；

优选地，所述气体调节器(5)包括压力调节阀和流量计。

7.根据权利要求1-6任一项所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆环空腔(7)的环带宽度与圆筒形塔体(1)内径的比为1:(3～1000)，优选为1:(10～100)，进一步优选为1:10；

优选地，所述中心圆筒空腔(8)的直径与圆筒形塔体(1)内径的比为1:(3～1000)，优选为1:(10～100)，进一步优选为1:10。

8.根据权利要求1-7任一项所述的塔式气液接触设备均匀布气装置的用途，其应用于塔式气液接触设备中。

9.根据权利要求1-7任一项所述的塔式气液接触设备均匀布气装置的用途，其应用于溶剂萃取、溶剂气浮或溶剂浮选领域。