[发明专利]包含具有光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团的重复单元的聚合物和相关光致抗蚀剂组合物和电子装置形成方法

权利要求书

1.一种聚合物，其包含以全部重复单元的100摩尔％计50到100摩尔％的光酸产生重复单元，其中所述光酸产生重复单元中的每一个包含(a)光酸产生官能团和(b)碱溶解度增强官能团，所述碱溶解度增强官能团选自由以下各者组成的群组：叔羧酸酯、其中仲碳经至少一个未被取代或被取代的C_6-40芳基取代的仲羧酸酯、缩醛、缩酮、内酯、磺内酯、α-氟化酯、β-氟化酯、α,β-氟化酯、聚亚烷基二醇、α-氟化醇和其组合，

其中所述光酸产生重复单元具有结构

其中

R¹在所述重复单元中的每一个中独立地为H、F、-CN、C_1-10烷基或C_1-10氟烷基；

L¹在所述重复单元中的每一个中独立地为-O-、-C(O)-O-、未经取代的C_6-18亚芳基或被取代的C_6-18亚芳基；

m在所述重复单元中的每一个中独立地为0或1；

L²在所述重复单元中的每一个中独立地为未被取代或被取代的C_1-20亚烃基，其中所述被取代的C_1-20亚烃基可以任选地包括一个或多个链中含二价杂原子的基团，所述链中含二价杂原子的基团为-O-、-S-、-NR²、-PR²-、-C(O)-、-OC(O)O-、-N(R²)C(O)-、-C(O)N(R²)-、-OC(O)N(R²)-、-N(R²)C(O)O-、-S(O)-、-S(O)₂-、-N(R²)S(O)₂-、-S(O)₂N(R²)-、-OS(O)₂-或-S(O)₂O-，其中R²是H或C_1-12烃基；

Z^-在所述重复单元中的每一个中独立地为-SO₃^-；-S(O)₂N^-R³，其中R³是H或未被取代或被取代的C_1-12烃基；或-S(O)₂N^-S(O)₂R³，其中R³是H或未被取代或被取代的C_1-12烃基；且

Q⁺是光酸产生阳离子；

其中L¹、L²和Q⁺中的至少一个包含所述碱溶解度增强官能团。

2.根据权利要求1所述的聚合物，其包含95到100摩尔％的所述光酸产生重复单元。

3.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中所述光酸产生重复单元衍生自单一单体。

4.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中所述光酸产生重复单元衍生自至少两种不同单体。

5.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中所述碱溶解度增强官能团是叔羧酸酯、缩醛、缩酮、内酯或其组合。

6.根据权利要求1所述的聚合物，其中

R¹在所述重复单元中的每一个中独立地为H或甲基；

L¹在所述重复单元中的每一个中是-C(O)-O-；

m在所述重复单元中的每一个中是1；

Z^-在所述重复单元中的每一个中是磺酸根(-SO₃^-)；且

Q⁺在所述重复单元中的每一个中独立地为未被取代或被取代的三(C_1-60烃基)硫鎓离子或未被取代或被取代的二(C_1-60烃基)碘鎓离子。