[发明专利]COA型阵列基板的制作方法与彩膜基板的制作方法

说明书

本发明提供一种COA型阵列基板的制作方法与彩膜基板的制作方法。本发明的COA型阵列基板的制作方法，利用电化学沉积的方法，通过TFT基板上的TFT电路提供电信号直接在像素电极层中的第一、第二、第三像素电极上分别沉积第一、第二、第三色阻材料分子并使其交联聚合，形成第一、第二、第三彩色聚合物薄膜，从而构成彩色滤光层，简化了彩色滤光层的制造工艺。本发明的彩膜基板的制作方法，在一衬底基板上首先形成一图案化的电极层，然后利用电化学沉积的方法，在该电极层中的第一、第二、第三电极上分别沉积第一、第二、第三色阻材料分子并使其交联聚合，形成第一、第二、第三彩色聚合物薄膜，从而构成彩色滤光层，简化了彩色滤光层的制造工艺。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种COA型阵列基板的制作方法与彩膜基板的制作方法。

背景技术

液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。如：液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

通常液晶显示装置包括壳体、设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。其中，液晶面板的结构主要是由一薄膜晶体管阵列基板(Thin FilmTransistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、一彩色滤光片基板(Color FilterSubstrate，CF Substrate)、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。

彩色滤光片是实现液晶显示全彩化的关键。目前彩色滤光片的制备主要是通过光刻工艺制备R、G、B三色光阻，工艺复杂、成本较高，且为了避免色阻混色，需制备黑色矩阵(Black Matrix，BM)分隔各色光阻层，这样会导致像素开口率的降低。

电化学沉积技术是利用具有电化学活性的有机分子在电极与溶液的接触界面发生的氧化或还原偶联反应，从而在电极上形成聚合物薄膜的方法，其特点是工艺简单、成本低廉；薄膜的形貌、厚度、聚集态结构等性质可以通过对电化学沉积方法及条件的选择进行精确调控；更重要的是，电化学沉积技术可以一步完成有机分子的合成和定向沉积成膜。

发明内容

本发明的目的在于提供一种COA型阵列基板的制作方法，利用电化学沉积的方法形成彩色滤光层，简化彩色滤光层的制造工艺。

本发明的目的还在于提供一种彩膜基板的制作方法，利用电化学沉积的方法形成彩色滤光层，简化彩色滤光层的制造工艺。

为实现上述目的，本发明提供一种COA型阵列基板的制作方法，包括如下步骤：

步骤1、提供一TFT基板，所述TFT基板包括衬底基板、设于衬底基板上的TFT层、及设于所述TFT层上的像素电极层；所述像素电极层包括呈矩阵分布的多个第一、第二、第三像素电极；

步骤2、利用所述第一、第二、第三像素电极，采用电化学沉积方法在所述第一、第二、第三像素电极上分别沉积第一、第二、第三彩色聚合物薄膜，设于所述像素电极层上的多个第一、第二、第三彩色聚合物薄膜共同构成彩色滤光层，从而制得一COA型阵列基板。

所述步骤2中，在所述第一像素电极上沉积第一彩色聚合物薄膜的具体步骤包括：

步骤21、提供一电极基板、及供电装置，将所述TFT基板与电极基板分别连接供电装置，并将所述TFT基板与电极基板浸入盛装有第一电解质溶液的容器中，所述第一电解质溶液中含有带电的第一色阻材料分子；