[发明专利]微光学成像薄膜及成像装置在审
| 申请号： | 201510661376.1 | 申请日： | 2015-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN106597581A | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 张健 | 申请（专利权）人： | 昇印光电（昆山）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 党晓林 |
| 地址： | 215316 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微光 成像 薄膜 装置 | ||
1.一种微光学成像薄膜，其特征在于，包括：本体；
所述本体上形成有聚焦结构和图文结构，所述聚焦结构和所述图文结构相适配从而形成图像；
至少部分所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构，制成所述包覆结构和所述聚焦结构的材料不同，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05。
2.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构和所述图文结构为一体结构。
3.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述图文结构的第二聚合物之间形成有第一融合部分。
4.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述本体上还形成有间隔结构，所述聚焦结构和所述图文结构分别位于所述间隔结构的两侧。
5.根据权利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构和所述间隔结构为一体结构。
6.根据权利要求5所述的成像薄膜，其特征在于，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第二融合部分。
7.根据权利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述图文结构和所述间隔结构为一体结构。
8.根据权利要求7所述的成像薄膜，其特征在于，用于形成所述图文结构的第二聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第三融合部分。
9.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构形成于所述本体的第一表面，所述图文结构形成于所述本体的第二表面，所述第一表面与所述第二表面相背对。
10.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构形成于所述本体的第一表面，所述图文结构形成于所述本体的内部。
11.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述图文结构为凹槽结构。
12.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构包括一个或多个微透镜或菲涅尔透镜。
13.根据权利要求1-8任一项所述的成像薄膜，其特征在于，所述包覆结构中远离所述聚焦结构的一表面为平整的表面。
14.一种成像装置，其特征在于，包括：
成像薄膜，所述成像薄膜包括聚焦结构和图文结构，所述聚焦结构和所述图文结构相适配从而形成图像；
包覆结构，所述包覆结构用于包覆至少部分所述聚焦结构的外表面，制成所述包覆结构和所述聚焦结构的材料不同，并且所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05；
承载结构，所述承载结构位于所述包覆结构远离所述成像薄膜的一侧，用于承载并显示所述成像薄膜的成像。
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