[发明专利]地下连续墙渗漏检测方法有效
| 申请号： | 201510669561.5 | 申请日： | 2015-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN105239609B | 公开（公告）日： | 2017-05-03 |
| 发明（设计）人： | 黄永进;马文亮;胡绕;唐坚;朱黎明;王水强;殷习容;贾兆磊;李风生;吴锋;何伟 | 申请（专利权）人： | 上海岩土工程勘察设计研究院有限公司 |
| 主分类号： | E02D33/00 | 分类号： | E02D33/00 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200032 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 地下 连续 渗漏 检测 方法 | ||
1.一种地下连续墙渗漏检测方法，用于检测设置在基坑内的地下连续墙的渗漏，其特征在于：在所述地下连续墙的内、外两侧分别开设若干测试孔；在所述基坑降水前、后分别依次对同侧相邻的两个测试孔进行电阻率检测，根据检测结果计算得到相邻两个测试孔之间的电阻率剖面；比较所述基坑降水前、后相同位置处的所述电阻率剖面，若所述基坑降水后的电阻率剖面相比于降水前的电阻率剖面出现低阻异常，则所述电阻率剖面所对应位置的所述地下连续墙出现渗漏。
2.根据权利要求1所述的一种地下连续墙渗漏检测方法，其特征在于：在所述基坑的外侧开设离子溶液注入孔，所述离子溶液注入孔位于所述地下连续墙外侧的所述测试孔的外侧，在所述离子溶液注入孔内注入低阻离子溶液，所述低阻离子溶液的注入过程伴随所述基坑的降水过程；比较所述基坑降水前、后相同位置处的所述电阻率剖面，若所述基坑降水后的电阻率剖面相比于降水前的电阻率剖面出现低阻异常，则所述电阻率剖面所对应位置的所述地下连续墙出现渗漏。
3.根据权利要求1所述的一种地下连续墙渗漏检测方法，其特征在于：比较所述基坑降水前、后相同位置处的所述电阻率剖面，判断所述地下连续墙是否存在渗漏以及渗漏点的位置和范围。
4.根据权利要求1所述的一种地下连续墙渗漏检测方法，其特征在于：同侧所述测试孔之间的连线覆盖所述地下连续墙的待检测区段；同侧相邻的两个测试孔之间的连线覆盖所述地下连续墙的接缝位置。
5.根据权利要求1所述的一种地下连续墙渗漏检测方法，其特征在于：所述测试孔平行布置在所述地下连续墙的两侧。
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