[发明专利]介质处理装置以及介质处理装置的控制方法有效
申请号: | 201510672841.1 | 申请日: | 2012-05-21 |
公开(公告)号: | CN105205869B | 公开(公告)日: | 2017-09-26 |
发明(设计)人: | 田多井俊男;太田惠治;中山直人 | 申请(专利权)人: | 日本电产三协株式会社 |
主分类号: | G07B11/00 | 分类号: | G07B11/00;G06K17/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 俞丹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 处理 装置 以及 控制 方法 | ||
1.一种介质处理装置,其特征在于,其具有:
介质传送路径,其传送具有磁条的卡状的记录介质;
第一磁头,其从经过所述介质传送路径的所述记录介质的厚度方向的一侧面向所述介质传送路径;
第二磁头,其从所述记录介质的所述厚度方向的另一侧面向所述介质传送路径;
检测机构,其配置在比所述第一磁头以及所述第二磁头靠所述记录介质的传送方向的上游一侧的位置,并检测出所述记录介质是以其一面或者另一面中的哪一面朝向所述第一磁头一侧的状态被吸入所述介质传送路径的;
第一热敏头,其从所述记录介质的所述厚度方向的一侧面向所述介质传送路径;
第二热敏头,其从所述记录介质的所述厚度方向的另一侧面向所述介质传送路径;
第一移动机构,其使所述第一热敏头在能够与所述记录介质接触的第一接触位置和朝向远离所述介质传送路径的方向退避的第一退避位置之间移动;
第二移动机构,其使所述第二热敏头在能够与所述记录介质接触的第二接触位置和朝向远离所述介质传送路径的方向退避的第二退避位置之间移动;以及
控制部,其控制所述第一热敏头、所述第二热敏头、所述第一移动机构以及所述第二移动机构,
所述控制部根据所述检测机构的检测结果,使所述第一移动机构或者所述第二移动机构工作,并使所述第一热敏头配置于所述第一接触位置或者使所述第二热敏头配置于所述第二接触位置,同时根据利用所述第一磁头或者所述第二磁头读取磁性数据得到的读取结果,来辨别所述记录介质是从其一端侧或者另一端侧中的哪一端侧被吸入所述介质传送路径的,并根据辨别结果,一边对所述第一热敏头或者对所述第二热敏头进行温度控制和对所述记录介质进行传送控制,一边使所述第一热敏头或者所述第二热敏头对所述记录介质进行印字。
2.根据权利要求1所述的介质处理装置,其特征在于,
所述检测机构为检测出有无所述磁条的预读头。
3.一种介质处理装置,其特征在于,其具有:
介质传送路径,其传送具有磁条的卡状的记录介质;
第一磁头,其从经过所述介质传送路径的所述记录介质的厚度方向的一侧面向所述介质传送路径;
第二磁头,其从所述记录介质的所述厚度方向的另一侧面向所述介质传送路径;
第一热敏头,其从所述记录介质的所述厚度方向的一侧面向所述介质传送路径;
第二热敏头,其从所述记录介质的所述厚度方向的另一侧面向所述介质传送路径;
第一移动机构,其使所述第一热敏头在能够与所述记录介质接触的第一接触位置和朝向远离所述介质传送路径的方向退避的第一退避位置之间移动;
第二移动机构,其使所述第二热敏头在能够与所述记录介质接触的第二接触位置和朝向远离所述介质传送路径的方向退避的第二退避位置之间移动;以及
控制部,其控制所述第一热敏头、所述第二热敏头、所述第一移动机构以及所述第二移动机构,
所述控制部辨别是利用所述第一磁头或者所述第二磁头中的哪一个磁头读取磁性数据的,并根据辨别结果,使所述第一移动机构或者所述第二移动机构工作,并使所述第一热敏头配置于所述第一接触位置或者使所述第二热敏头配置于所述第二接触位置,同时根据所述第一磁头或者所述第二磁头读取磁性数据得到的读取结果,来辨别所述记录介质是从其一端侧或者另一端侧中的哪一端侧被吸入所述介质传送路径的,并根据辨别结果,一边对所述第一热敏头或者对所述第二热敏头进行温度控制和对所述记录介质进行传送控制,一边使所述第一热敏头或者所述第二热敏头对所述记录介质进行印字。
4.一种介质处理装置的控制方法,其特征在于,所述介质处理装置具有:
介质传送路径,其传送具有磁条的卡状的记录介质;
第一磁头,其从经过所述介质传送路径的所述记录介质的厚度方向的一侧面向所述介质传送路径;
第二磁头,其从所述记录介质的所述厚度方向的另一侧面向所述介质传送路径;
第一热敏头,其以从所述记录介质的所述厚度方向的一侧面向所述介质传送路径的方式配置,并在能够与所述记录介质接触的第一接触位置和朝向远离所述介质传送路径的方向退避的第一退避位置之间能够移动;以及
第二热敏头,其以从所述记录介质的所述厚度方向的另一侧面向所述介质传送路径的方式配置,并在能够与所述记录介质接触的第二接触位置和朝向远离所述介质传送路径的方向退避的第二退避位置之间能够移动,
所述介质处理装置的控制方法包括:
第一吸入方向辨别步骤,其辨别所述记录介质是以其一面或者另一面中的哪一面朝向所述第一磁头一侧的状态被吸入所述介质传送路径的;
第二吸入方向辨别步骤,其根据利用所述第一磁头或者所述第二磁头读取磁性数据得到的读取结果,来辨别所述记录介质是从其一端侧或者另一端侧中的哪一端侧被吸入所述介质传送路径的;
热敏头移动步骤,其根据在所述第一吸入方向辨别步骤中的辨别结果,使所述第一热敏头移动至所述第一接触位置或者使所述第二热敏头移动至所述第二接触位置;以及
印字步骤,其根据在所述第二吸入方向辨别步骤中的辨别结果,一边对在所述热敏头移动步骤中移动了的所述第一热敏头或者所述第二热敏头进行温度控制和对所述记录介质进行传送控制,一边通过所述第一热敏头或者所述第二热敏头对所述记录介质进行印字。
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