[发明专利]一种彩膜基板及制作方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括：

基底，其中，所述基底对应显示区域的表面形成有周期性的突起和凹陷，所述突起用于在所述彩膜基板与对应的阵列基板贴合时起支撑作用，所述凹陷的表面设置有色阻层，所述突起的表面设置有黑色矩阵。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述突起的图案与所述彩膜基板上的或所述彩膜基板对应的阵列基板上的黑色矩阵图案相同。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，在所述基底的显示区域的外侧、与对应的阵列基板贴合处设置预留凹陷，所述预留凹陷用作胶框涂覆区域。

4.一种用于制作彩膜基板的方法，包括：

在基板上涂覆光阻材料；

对涂覆的光阻材料进行处理，以裸露出部分基板；

对裸露的基板进行蚀刻处理，以在基板上的显示区域形成周期性的突起及凹陷，在显示区域的外侧形成框胶涂覆凹陷；

在所述突起的表面涂覆遮光材料并进行处理，以形成黑色矩阵；

在所述凹陷的表面涂覆色阻材料并进行处理，以形成色阻层；

在所述黑色矩阵和所述色阻层上涂覆透明导电材料，以形成透明导电电极。

5.一种用于制作彩膜基板的方法，包括：

在基板上涂覆光阻材料；

对涂覆的光阻材料进行处理，以裸露出部分基板；

对裸露的基板进行蚀刻处理，以在基板上的显示区域形成周期性的突起及凹陷，在显示区域的外侧形成框胶涂覆凹陷；

在所述凹陷的表面涂覆色阻材料并进行处理，以形成色阻层；

在所述突起和所述色阻层上涂覆透明导电材料，以形成透明导电电极。

6.一种用于制作彩膜基板的方法，包括：

在基板上涂覆光阻材料；

对涂覆的光阻材料进行处理，以裸露出部分基板；

对裸露的基板进行蚀刻处理，以在基板上的显示区域形成周期性的突起及凹陷，在显示区域的外侧形成框胶涂覆凹陷；

在所述突起的表面涂覆遮光材料并进行处理，以形成黑色矩阵；

在所述凹陷和所述黑色矩阵上涂覆透明导电材料，以形成透明导电电极。

7.一种用于制作彩膜基板的方法，包括：

在基板上涂覆光阻材料；

对涂覆的光阻材料进行处理，以裸露出部分基板；

对裸露的基板进行蚀刻处理，以在基板上的显示区域形成周期性的突起及凹陷，在显示区域的外侧形成框胶涂覆凹陷；

在所述突起和所述凹陷的表面涂覆透明导电材料，以形成透明导电电极。