[发明专利]一种太赫兹成像装置和方法有效
申请号: | 201510677053.1 | 申请日: | 2015-10-16 |
公开(公告)号: | CN105241816B | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 吴光胜;张艳东;丁庆 | 申请(专利权)人: | 华讯方舟科技有限公司;深圳市太赫兹科技创新研究院 |
主分类号: | G01N21/17 | 分类号: | G01N21/17 |
代理公司: | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人: | 刘国伟;武玉琴 |
地址: | 518102 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 赫兹 成像 装置 方法 | ||
1.一种太赫兹成像装置,其特征在于,所述装置包括:准直模块、掩模模块和反射波采集模块;其中,
准直模块,用于将入射的太赫兹信号进行准直后照射向掩模模块和待成像物品,所述准直模块包括凸透镜或者是离轴抛物面镜;
掩模模块,用于覆盖在待成像物品前,控制太赫兹信号照射所述物品的照射区域;
分频模块,位于待成像物品之后,用于将所述物品反射的各个频率的反射太赫兹信号分别聚焦于光轴不同的位置;
反射信号采集模块,用于采集经过所述物品反射后的反射太赫兹信号,并将所述反射太赫兹信号转换为电信号发送至信号处理模块;所述反射信号采集模块包括:
N个反射信号固定采集单元,分别用于采集N个不同频率的反射太赫兹信号,位于所述光轴的不同聚焦位置;
信号处理模块,用于控制掩模模块的移动,并根据对应的电信号进行物品成像。
2.根据权利要求1所述的太赫兹成像装置,其特征在于,所述掩模模块包括:
阿达玛掩模单元,放置于待成像物品反射太赫兹信号的传播路径上,用于按照阿达玛变换规则,对待成像物品反射的太赫兹信号进行调制;
掩模控制单元,用于控制阿达玛掩模单元按照预设路径移动。
3.一种太赫兹成像方法,其特征在于,所述方法包括:
将入射的太赫兹信号进行准直后照射向掩模模块和待成像物品;
将掩模模块覆盖在待成像物品前,以控制太赫兹信号照射所述物品的照射区域;
将所述物品反射的各个频率的反射太赫兹信号分别聚焦于光轴不同的位置;
采集经过所述物品反射后的反射太赫兹信号,并将所述反射太赫兹信号转换为电信号,其中所述采集经过所述物品反射后的反射太赫兹信号包括:
使用N个固定于光轴不同聚焦位置的N个位置的反射信号固定采集单元,分别采集N个不同频率的反射太赫兹信号;
控制掩模模块的移动,并根据对应的电信号进行物品成像。
4.根据权利要求3所述的太赫兹成像方法,其特征在于,所述将掩模模块覆盖在待成像物品前,以控制太赫兹信号照射所述物品的照射区域包括:
将阿达玛掩模放置于待成像物品反射太赫兹信号的传播路径上,并按照预设的路径移动该阿达玛掩模,实现阿达玛变换。
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