[发明专利]硅外延反应室的进气调节组件及气流分布调节装置

权利要求书

1.一种硅外延反应室的进气调节组件，其特征在于：包括进气主阀（1）、进气调节本体（2）、进气法兰（3）和多个调节阀（4），所述进气调节本体（2）安装于进气法兰（3）上，所述进气调节本体（2）内设有与进气主阀（1）连通的进气腔（20），所述进气法兰（3）由内向外开设与调节阀（4）一一对应的排气孔（30），所述排气孔（30）间隔均匀、整列布置，所述排气孔（30）与进气腔（20）之间通过一个缓冲均压腔（23）连通，所述调节阀（4）的调节件伸入缓冲均压腔（23）内且可远离或靠近排气孔（30）的进气端。

2.根据权利要求1所述的硅外延反应室的进气调节组件，其特征在于：所述进气调节本体（2）安装于进气法兰（3）的上表面，所述调节阀（4）的调节件延伸至进气调节本体（2）的上方，多个所述调节阀（4）沿进气调节本体（2）的侧边整列布置，多个所述排气孔（30）的出气端延伸至进气法兰（3）的侧面且与上方的调节阀（4）一一对齐。

3.根据权利要求2所述的硅外延反应室的进气调节组件，其特征在于：所述进气主阀（1）设于进气调节本体（2）的上表面，且位于调节阀（4）远离排气孔（30）的一侧。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的硅外延反应室的进气调节组件，其特征在于：所述调节阀（4）为针阀。

5.一种气流分布调节装置，其特征在于：包括权利要求1至4中任一项所述的三个进气调节组件，三个进气调节组件沿排气孔（30）的整列方向依次邻接，三组排气孔（30）成一整列水平排布，三个缓冲均压腔（23）均连通，中间一组排气孔（30）布置的数量大于两侧的排气孔（30）布置的数量，且相邻两组排气孔（30）之间的距离大于每组排气孔自身的间隔距离。

6.根据权利要求5所述的气流分布调节装置，其特征在于：中间的进气调节组件为主进气调节组件（5），两侧的进气调节组件为辅助进气调节组件（6，7），所述主进气调节组件（5）、辅助进气调节组件（6，7）的进气法兰一体成型，所述主进气调节组件（5）、辅助进气调节组件（6，7）共用同一个缓冲均压腔（23）。