[发明专利]用于制作复制拼接光栅中的误差检测方法

说明书

技术领域

本发明涉及大尺寸平面衍射光栅制作领域，具体涉及一种制作复制拼接光栅中的误差检测方法。

背景技术

米级尺寸平面衍射光栅在天文光谱分析、惯性约束核聚变激光快点火系统等众多科研领域中都有着重要的应用。光栅复制拼接方法具有低成本、易于工程化等优点，是制作米级以上尺寸平面光栅的主要方法之一。

光栅复制拼接法是指利用复制工艺将两块或更多小尺寸的光栅复制到同一块玻璃毛坯上，根据光栅的使用精度要求，调节各块子光栅姿态和相对位置关系，在该玻璃毛坯上形成的拼接光栅在一定精度要求下可当作一整块光栅使用。光栅复制拼接法主要分为传统复制拼接法和新型复制拼接法，传统复制拼接法是指先将两块子光栅进行拼接，再利用复制工艺将两块子光栅的槽形同时复制到一块面积为二者之和的光栅基底上，从而制作得到复制拼接光栅；

新型复制拼接法是用一块光栅母版，如现有申请号为CN201510190510.4的专利，在光栅基底的相邻区域分时复制，调整每次复制过程中子光栅的位置姿态满足精度要求，得到面积为子光栅整数倍的复制拼接光栅。

现有的光栅复制拼接检测技术是将平行单色光入射至光栅上表面，由衍射波前测量干涉仪接收光栅的零级反射光和闪耀级次的衍射光，通过分析计算出光栅拼接误差。

对于传统复制拼接法而言，现有的光栅复制拼接检测技术只能在两块子光栅的拼接过程中进行光栅拼接误差检测；由于现有的光栅复制拼接检测技术是在光栅上表面实现测量的，无法在光栅复制过程中对光栅拼接误差进行在线监测，若复制过程中光栅的拼接误差变大则可能导致光栅拼接失败；因此该检测技术存在以下缺陷：①不能够实时在光栅复制过程中检测拼接误差，复制拼接光栅的成功率低；②现有的检测方法需使用两台干涉仪检测，系统复杂且价格昂贵；使用一台干涉仪分时对光栅零级反射光和闪耀级次的衍射光进行检测，则需要不断搬动干涉仪的位置，这对光路调整极为不便。

此外，若将现有检测技术用于新型复制拼接法，由于新型复制拼接法是在复制过程中拼接两块光栅，而复制过程中光栅表面并不暴露于外表面，即入射光并不能直接入射到第二次复制时产生的光栅表面，需要穿过母版光栅基底，而第一块光栅并没有母版光栅，因此拼接误差检测时存在光栅母版的影响，该检测方法存在以下缺陷：①从光栅上表面入射时，母版光栅基底折射率会导致两块拼接光栅的衍射光出射方向不一致，探测器不能同时接收两块光栅的衍射光；②母版光栅基底会引入附加光程差，导致拼接误差检测时受到影响。因此，采用现有检测技术无法实现对新型复制拼接法的拼接误差的高精度测量。

发明内容

本发明为解决现有光栅复制拼接误差检测方法由于入射光从光栅上表面入射，存在母版光栅基底折射率会导致两块拼接光栅的衍射光出射方向不一致，探测器不能同时接收两块光栅的衍射光进而导致测量精度低等问题，提供一种用于制作复制拼接光栅中的误差检测方法。

用于制作复制拼接光栅中的误差检测方法，用于对一块光栅母版在光栅毛坯上分时复制获得的两块光栅存在的误差进行检测，该方法由以下步骤实现：

步骤一、将光栅毛坯放置在底部设置有透光孔的拼接架上，并在所述拼接架下方放置零级光路平面反射镜和闪耀级次平面反射镜；

步骤二、光栅衍射波前测量干涉仪出射准直光，光源分别入射至零级光路平面反射镜和闪耀级次平面反射镜，调整所述零级光路平面反射镜和闪耀级次平面反射镜的角度，使零级衍射光和闪耀级次的衍射光依次穿过拼接架的透光孔以及光栅毛坯的铝层表面入射至第一次复制形成的光栅与第二次复制形成的光栅的接缝处，然后原路返回经零级光路平面反射镜和闪耀级次平面反射镜反射至光栅衍射波前测量干涉仪；

步骤三、根据光栅衍射波前测量干涉仪接收的零级衍射光和闪耀级次的衍射光的干涉条纹，调整光栅拼接架的位置及角度姿态，使第一次复制形成的光栅3与第二次复制形成的光栅的衍射波前差小于λ/4。

本发明的有益效果：本发明设计一种应用于复制拼接过程中的实时拼接误差检测方法，采用在光栅下表面穿过光栅毛坯来实现光栅拼接误差的测量，该方法可同时适用于传统复制拼接法和新型复制拼接法，实现在光栅拼接及光栅复制过程中对光栅拼接误差的实时检测，提高复制拼接光栅的制作精度，保证制作复制拼接光栅的成功率；此外，本发明仅利用一台光栅衍射波前测量干涉仪，分光束实现对拼接光栅零级光及衍射光的测量，简化了检测光路，为实际测量拼接误差提供方便。

附图说明

图1为采用本发明所述的用于制作复制拼接光栅中的误差检测方法中拼接误差的结构示意图；