[发明专利]一种用于电子材料的清洗剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201510680980.9 | 申请日： | 2015-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN105219545A | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 陈素素 | 申请（专利权）人： | 南京润屹电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/831 | 分类号： | C11D1/831;C11D3/386;C11D3/60 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市麒麟*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 电子 材料 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于电子材料的清洗剂，其特征在于：按重量百分比计由以下原料组成：APG-烷基多苷3～5％，SAS-仲烷基磺酸钠2～4％，氨基多羧酸0.8～1.2％、羟基羧酸0.8～1.2％、十二碳二元羧酸0.3～0.7％，异构醇聚氧乙烯醚1～2％，氮川三乙酸0.5～0.8％，脂肪酶0.2～0.3％，余量为水。
2.根据权利要求1所述的一种用于电子材料的清洗剂，其特征在于：按重量百分比计由以下原料组成：APG-烷基多苷3.5～5％，SAS-仲烷基磺酸钠3～4％，氨基多羧酸1～1.2％、羟基羧酸1～1.2％、十二碳二元羧酸0.5～0.7％，异构醇聚氧乙烯醚1.5～2％，氮川三乙酸0.6～0.8％，脂肪酶0.2～0.3％，余量为水。
3.根据权利要求1所述的一种用于电子材料的清洗剂，其特征在于：按重量百分比计由以下原料组成：APG-烷基多苷4％，SAS-仲烷基磺酸钠3％，氨基多羧酸1％、羟基羧酸1％、十二碳二元羧酸0.6％，异构醇聚氧乙烯醚1.7％，氮川三乙酸0.7％，脂肪酶0.2％，余量为水。
4.一种根据权利要求1所述的用于电子材料的清洗剂的制备方法，其特征在于：
称取相应原料组分混合后，在超声波的作用下超声10～20min。
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