[发明专利]一种功率半导体器件有效
申请号: | 201510683388.4 | 申请日: | 2015-10-20 |
公开(公告)号: | CN105336765B | 公开(公告)日: | 2018-12-25 |
发明(设计)人: | 汪志刚;杨大力;王亚南;王冰 | 申请(专利权)人: | 西南交通大学 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06 |
代理公司: | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 葛启函 |
地址: | 610031 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 功率 半导体器件 | ||
1.一种功率半导体器件,包括有源区和结终端区;所述有源区包括第一N型掺杂区(20)、第二N型掺杂区(21)、第一P型掺杂区(31)和HK材料有源区(40);所述HK材料有源区(40)和第二N型掺杂区(21)沿器件横向方向交替排布构成类超结结构;所述第一P型掺杂区(31)位于类超结结构的上表面;所述第一N型掺杂区(20)位于类超结结构的下表面;所述结终端区位于功率半导体器件有源区外侧或者外围,其包括第一N型掺杂区(20)、第二N型掺杂区(21)、第一P型掺杂区(31)和1个HK材料终端区(41);HK材料终端区(41)位于所述第一P型掺杂区(31)下方,且紧邻有源区中第一N型掺杂区(20)、第二N型掺杂区(21);所述结终端区中第一N型掺杂区(20)位于HK材料终端区(41)外侧或者外围,所述结终端区中第二N型掺杂区(21)位于结终端区中第一N型掺杂区(20)上方;所述有源区和终端区下表面具有第一金属电极(101);所述有源区和终端区的上表面具有第二金属电极(103);
所述HK材料有源区(40)贯穿第一N型掺杂区(20)与第一金属电极(101)连接;所述HK材料终端区(41)贯穿第一N型掺杂区(20)与第一金属电极(101)连接;所述终端区与有源区相连一侧的部分下表面与第一金属电极(101)连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西南交通大学,未经西南交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510683388.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类