[发明专利]用于化学机械研磨机台的固定环在审

专利信息
申请号: 201510683995.0 申请日: 2015-10-20
公开(公告)号: CN105397618A 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 李虎;张守龙;赵正元 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: B24B37/32 分类号: B24B37/32;B24B37/34;B24B49/10
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 化学 机械 研磨 机台 固定
【权利要求书】:

1.一种用于化学机械研磨机台的固定环,所述化学机械研磨机台具有一机台控制端,所述固定环包括一环体以及设置于所述环体的研磨面的沟槽,其特征在于:还包括安装在所述环体上的信号探测单元,所述信号探测单元连接到所述机台控制端,所述环体磨损到固定环寿命终止位置或破裂时所述信号探测单元发出信号至所述机台控制端。

2.根据权利要求1所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述信号探测单元包括导线以及电信号探测器,所述导线包括第一部分、与所述第一部分连接的第二部分、与所述第二部分连接的第三部分以及与所述第一部分连接电信号探测器,所述第二部分环绕所述环体,所述第三部分的底端靠近所述研磨面并与所述固定环寿命终止位置平齐。

3.根据权利要求2所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述第三部分为V型、W型或U型中的一种或其组合。

4.根据权利要求2所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述第二部分设置于所述环体内部或表面。

5.根据权利要求2所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述第三部分设置于所述环体内部或表面。

6.根据权利要求2所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述电信号探测器为电流探测器或电压探测器。

7.根据权利要求1所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述信号探测单元包括导线、电容以及电信号探测器,所述导线包括第一部分以及与所述第一部分连接的第二部分,所述第一部分连接所述电信号探测器,所述第二部分环绕所述环体并连接所述电容,所述电容靠近所述研磨面并与所述固定环寿命终止位置平齐。

8.根据权利要求7所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述第二部分设置于所述环体内部或表面。

9.根据权利要求7所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述电容设置于所述环体内部或表面。

10.根据权利要求7所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述电信号探测器为电流探测器或电压探测器。

11.根据权利要求7所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述电容为薄膜电容、陶瓷电容或云母电容中的一种或其组合。

12.根据权利要求1所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述信号探测单元包括闭合空间以及设置于所述闭合空间内的信号探测器,所述闭合空间环绕所述环体,所述闭合空间的底端位置靠近所述研磨面并与所述固定环寿命终止位置平齐。

13.根据权利要求12所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述信号探测器为气压探测器、湿度探测器和氧气探测器中的一种或其组合。

14.根据权利要求12所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述闭合空间为真空空间。

15.根据权利要求12所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述信号探测器安装在所述底端位置。

16.根据权利要求1所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述信号探测单元包括闭合空间、设置于所述闭合空间内的液体以及设置于所述闭合空间内的浮力探测器,所述闭合空间的底端位置靠近所述环体的研磨面并与所述固定环寿命终止位置平齐。

17.根据权利要求16所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述液体为去离子水。

18.根据权利要求1-17中任一项所述的用于化学机械研磨机台的固定环,其特征在于:所述环体的材料为聚醚醚酮聚合材料。

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