[发明专利]一种基于X-Ray图像的IC元器件缺陷检测方法有效
申请号: | 201510684145.2 | 申请日: | 2015-10-20 |
公开(公告)号: | CN105389802B | 公开(公告)日: | 2018-07-03 |
发明(设计)人: | 刘骏;杨雁清;徐华安 | 申请(专利权)人: | 无锡日联科技股份有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆;胡彬 |
地址: | 214145 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金线 缺陷检测 二值化图像 轮廓线 图像 剔除 灰度形态学 线头 关键节点 角度定位 强适应性 缺陷状况 位置不变 形态特征 旋转模板 整体零件 凹凸性 粗定位 关键点 偏移 竖向 算法 细化 像素 匹配 测算 分析 | ||
本发明公开一种基于X‑Ray图像的IC元器件缺陷检测方法,包括:对测算图像进行旋转模板匹配,实现对所测区域的位置及角度的粗定位;根据金线与整体零件相对位置不变的特性,由偏移及旋转角度定位出金线位置;通过灰度形态学OPEN操作,剔除金线头竖向部分干扰,提取出二值化图像;根据形态特征剔除干扰,提取出金线主体部分;采取Hilditch算法对二值化图像细化,使金线成为宽度是一个像素的细长轮廓;通过提取轮廓线关键点,对轮廓线关键节点以及轮廓整体走向趋势进行分析,确定金线的凹凸性,判断出IC元器件的缺陷状况。本发明快速可靠的实现了IC元器件的缺陷检测,具有很强适应性。
技术领域
本发明涉及IC元器件缺陷检测技术领域,尤其涉及一种基于X-Ray图像的IC元器件缺陷检测方法。
背景技术
集成电路(Integrated Circuit,IC)是一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺,把电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构;其中所有元件在结构上已组成一个整体,使电子元件向着微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面迈进了一大步。为保证IC元器件的品质,针对IC元器件的缺陷检测显得就尤为重要。然而,目前传统的IC元器件缺陷检测的方法依然是采用人工检测、机械检测等,这些方法都普遍存在过程复杂、检测效率低、质量差、不稳定,及检测时可能损坏元器件的问题。
发明内容
本发明的目的在于通过一种基于X-Ray图像的IC元器件缺陷检测方法,来解决以上背景技术部分提到的问题。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种基于X-Ray图像的IC元器件缺陷检测方法,其包括如下步骤:
S101、基于旋转不变性及尺度不变性,对测算图像进行旋转模板匹配,实现对所测区域的位置及角度的粗定位;
S102、根据所测金线与整体零件相对位置不变的特性,由偏移及旋转角度定位出金线位置;
S103、选择竖向形态学和算子,通过灰度形态学OPEN操作,剔除金线头竖向部分干扰,提取出二值化图像;
S104、根据包括圆弧区域的长宽比、面积在内的形态特征剔除干扰,提取出金线主体部分;
S105、采取Hilditch算法对二值化图像进行细化,使金线成为宽度是一个像素的细长轮廓;其中,Hilditch算法是图像处理中细化算法的一种;
S106、提取轮廓线关键点,对轮廓线关键节点以及轮廓整体走向趋势进行分析,确定金线的凹凸性。
特别地,所述步骤S101之前包括:
对采集得到的灰度图像进行2×5模板的均值滤波,采用横向检测,在滤除随机噪声的同时保留金线主体横向部分;
从待匹配目标图像序列中截取需匹配的目标区域作为模板图像,对该目标区域进行3×3模板的高斯滤波。
特别地,所述步骤S101中对测算图像进行旋转模板匹配,具体包括:采用SIFT算法对测算图像进行旋转匹配。
特别地,所述步骤S102具体包括:
在选取模板图片时,X-Ray成像放大倍率和待匹配目标图像序列的放大倍率一致,且选取模板图片时使原图水平放置;
选取模板图片时仅截取目标金线区域,并且模板图片的像素大小作为后续步骤的基准长度数据参数;
根据步骤S101获得的角度和位置,及所述基准长度数据,采用本体定位的方法和相对位置不变性定位出金线位置。
特别地,所述步骤S103具体包括:
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