[发明专利]机械制造产品表面处理系统在审
申请号: | 201510687560.3 | 申请日: | 2015-10-22 |
公开(公告)号: | CN106607224A | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 汪新华 | 申请(专利权)人: | 重庆韬华科技有限公司 |
主分类号: | B05B13/02 | 分类号: | B05B13/02;B05B15/00;B05B15/04 |
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地址: | 400054 重庆*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 机械制造 产品 表面 处理 系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种机械制造产品表面处理系统,属于机械制造产品技术领域。
背景技术
目前,机械制造过程中,经常需要针对产品表面进行处理,以便获得更好的产品加工处理效果,方便更好地实现产品表面处理,提高产品使用效率,方便根据需要使用,方便使用处理效果。
发明内容
本发明的目的在于提供一种机械制造产品表面处理系统,以便更好地方便使用机械制造产品,改善其表面处理效果。
为了实现上述目的,本发明的技术方案如下。
一种机械制造产品表面处理系统,包括底部支撑系统,底部支撑系统上部安装有表面处理系统,底部支撑系统左右两侧分别安装有左自由升降系统和右自由升降系统,左自由升降系统和右自由升降系统上部分别设有左自动伸缩机构和右自动伸缩机构,左自动伸缩机构和右自动伸缩机构上部分别设有承载系统和承载装置;左自由升降系统左侧安装有集液系统,集液系统左侧安装有承载机构,承载机构右侧上部设有顶部支撑连接机构,顶部支撑连接机构右侧安装有连接柱,连接柱下部设有支撑固定机构,支撑固定机构安装在承载系统上部,顶部支撑连接机构上部中间位置安装有喷涂液系统,喷涂液系统下部设有出液管;顶部支撑连接机构上部左侧安装有吸粉末废弃物器,吸粉末废弃物器下部设有进粉末废弃物系统。
进一步地,顶部支撑连接机构右侧安装有套筒,连接柱穿过套筒安装。
进一步地,顶部支撑连接机构中间位置安装有供电系统,支撑固定机构内部安装有多个干燥处理管,供电系统上安装有电源线与干燥处理管相连接。
进一步地,集液系统上部安装有分离处理板。
该系统中,产品放在承载装置上,在右自由升降系统的作用下,右自动伸缩机构带动承载装置移动,使承载装置处于合适的高度。将产品放置在承载系统上,利用左自由升降系统调节左自动伸缩机构,从而使承载系统处于合适的高度,将产品放置在承载系统上。利用连接柱带动支撑固定机构向下移动,从而利于支撑固定机构和承载系统固定机械产品。将产品拿到进粉末废弃物系统下方,在吸粉末废弃物器的作用下,产品上的粉末废弃物从进粉末废弃物系统进入吸粉末废弃物器进行收集。打开出液管上的阀门开关,喷涂液系统内储存的喷涂液从出液管下部流出,对产品进行处理。多余的喷涂液掉落到分离处理板上后从分离处理孔进入集液系统进行收集。
该发明的有益效果在于:该发明系统方便针对产品进行表面处理,提高了处理效率,方便根据需要使用。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明的具体实施方式进行描述,以便更好的理解本发明。
本发明实施例中的机械制造产品表面处理系统,包括底部支撑系统,底部支撑系统上部安装有表面处理系统,底部支撑系统左右两侧分别安装有左自由升降系统和右自由升降系统,左自由升降系统和右自由升降系统上部分别设有左自动伸缩机构和右自动伸缩机构,左自动伸缩机构和右自动伸缩机构上部分别设有承载系统和承载装置;左自由升降系统左侧安装有集液系统,集液系统左侧安装有承载机构,承载机构右侧上部设有顶部支撑连接机构,顶部支撑连接机构右侧安装有连接柱,连接柱下部设有支撑固定机构,支撑固定机构安装在承载系统上部,顶部支撑连接机构上部中间位置安装有喷涂液系统,喷涂液系统下部设有出液管;顶部支撑连接机构上部左侧安装有吸粉末废弃物器,吸粉末废弃物器下部设有进粉末废弃物系统。顶部支撑连接机构右侧安装有套筒,连接柱穿过套筒安装。顶部支撑连接机构中间位置安装有供电系统,支撑固定机构内部安装有多个干燥处理管,供电系统上安装有电源线与干燥处理管相连接。集液系统上部安装有分离处理板。
该系统在具体实施时,产品放在承载装置上,在右自由升降系统的作用下,右自动伸缩机构带动承载装置移动,使承载装置处于合适的高度。机械将产品放置在承载系统上,利用左自由升降系统调节左自动伸缩机构,从而使承载系统处于合适的高度,将产品放置在承载系统上。利用连接柱带动支撑固定机构向下移动,从而利于支撑固定机构和承载系统固定机械的产品。将产品拿到进粉末废弃物系统下方,在吸粉末废弃物器的作用下,产品上的粉末废弃物从进粉末废弃物系统进入吸粉末废弃物器进行收集。打开出液管上的阀门开关,喷涂液系统内储存的喷涂液从出液管下部流出,对产品进行处理。多余的喷涂液掉落到分离处理板上后从分离处理孔进入集液系统进行收集,避免喷涂液影响表面处理系统内的环境。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
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