[发明专利]一种用于二维光电显微镜的H形狭缝

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于二维光电显微镜的H形狭缝，属于精密测量领域，涉及对精密测量装备的改进。

背景技术

二维光电显微镜利用被测刻线的像与狭缝的相对位置关系进行刻线瞄准，实现超高精度测量。当刻线的像在狭缝区域划过时，通过狭缝透光区域的光能量将发生变化，二维光电显微镜通过检测这一光能量变化实现瞄准。当刻线存在制造瑕疵时，将影响二维光电显微镜的瞄准精度。

二维光电显微镜主要用于二维线纹标准样板的瞄准测量。二维线纹标准样板利用两条相互垂直的刻线定义点坐标。

目前对二维线纹样板的加工主要通过光学刻蚀方法实现，由于加工工艺水平的限制，很容易在十字刻线交叉点处形成过腐蚀，使十字刻线交叉点区域制造瑕疵较多，如图1所示。

十字刻线交叉点处的制造瑕疵导致刻线的像在该区域光强不均匀、线形扭曲，从而导致光能量变化，影响二维光电显微镜的瞄准精度。

传统的光电显微镜狭缝呈直线形，如图2所示，导致二维线纹十字刻线附近的制造瑕疵形成的像能顺利通过狭缝进入信号处理系统，从而影响光电显微镜的瞄准精度。

发明内容

本发明的目的是为了提高二维光电显微镜的瞄准精度，提出一种用于二维光电显微镜的H形狭缝。

本发明的目的是通过下述技术方案解决的。

本发明提出的一种用于二维光电显微镜的H形狭缝，其包括：遮光区域和通光区域。

所述H形狭缝由光学玻璃加工而成，遮光区域由不透光材料在光学玻璃上蒸镀形成，通光区域则是将蒸镀材料去除后得到。

通光区域由处于同一直线的2个宽度相同的长方形通光孔组成；并且2个长方形通光孔之间的间距大于长方形通光孔的宽度。

有益效果

本发明提出的一种用于二维光电显微镜的H形狭缝与已有技术相比较，其优点是可以屏蔽二维线纹刻线交叉点附近的制造瑕疵对测量结果的干扰，从而提高二维线纹测量精度。

附图说明

图1是背景技术中交叉点处带有瑕疵的十字刻线图；

图2是背景技术中光电显微镜狭缝示意图；

图3是本发明具体实施方式中用于二维光电显微镜的H形狭缝示意图；

其中，1-遮光区域、2-通光区域。

具体实施方式

下面结合实施例和附图对本发明作进一步说明，但不应以此限制本发明的保护范围。

本实施例中用于二维光电显微镜的H形狭缝包括：遮光区域1和通光区域2，如图3所示。具体为：

首先对10mm×10mm×0.5mm的石英玻璃片单面整体镀铬，加工出遮光区域1；然后在石英玻璃片的镀铬面的中间区域刻蚀出两个处于同一直线、大小为0.05mm×1mm的长方形透光通光孔，构成通光区域2；2个长方形通光孔之间的间距为0.1mm。该H形狭缝用在放大倍数为5倍的二维光点显微镜系统。

使用该二维光点显微镜系统对二维线纹10μm宽度的十字刻线进行瞄准测量时，瞄准精度达到50nm，实现了二维线纹的高精度瞄准测量。