[发明专利]一种单面消影触摸屏导电玻璃的加工方法

权利要求书

1.一种单面消影触摸屏导电玻璃的加工方法，所述单面消影触摸屏导电玻璃是由玻璃基板(1)、锡面(2)、干涉层一(3)、透明钝化层(4)、干涉层二(5)、透明层(6)、ITO膜(7)构成；其特征在于：玻璃基板(1)的两个表面均为锡面(2)，在玻璃基板(1)上表面的锡面(2)上方设置干涉层一(3)，干涉层一(3)与干涉层二(5)之间设置透明钝化层(4)，干涉层二(5)上方设置ITO膜(7)，在玻璃基板(1)下表面的锡面(2)下方设置透明层(6)，透明层(6)下方设置ITO膜(7)；

所述透明钝化层(4)采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；

所述干涉层一(3)与干涉层二(5)均采用五氧化二铌。

2.一种单面消影触摸屏导电玻璃的加工方法，其特征在于：

第一步，对玻璃基板(1)进行处理，

A、对玻璃基板(1)进行切割，先X切割，再Y切割，然后再掰片处理；

B、对切割后的玻璃基板(1)进行磨边和倒角，先X磨边，再倒角，旋转90°再对Y磨边及倒角；

C、刷洗吹干；

D、对磨边和倒角后的玻璃基板(1)进行抛光；

E、再刷洗吹干；

第二步，对玻璃基板(1)上溅射干涉层一(3)、透明钝化层(4)、干涉层二(5)和透明层(6)；

A、对抛光刷洗吹干后玻璃基板(1)进行加热；采用的加热温度为150-280摄氏度；

B、利用磁控溅射真空镀膜设备对加热后的玻璃基板(1)上表面的锡面(2)上方溅射干涉层一(3)，干涉层一(3)上方溅射透明钝化层(4)，透明钝化层(4)为透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅，透明钝化层(4)上方溅射干涉层二(5)，干涉层一(3)和干涉层二(5)均为五氧化二铌；对玻璃基板(1)下表面的锡面(2)下方溅射透明层(6)；

第三步，在玻璃基板(1)第二步溅射的基础上，进行ITO膜(7)溅射；

A、对溅射干涉层一(3)、透明钝化层(4)、干涉层二(5)和透明层(6)后的玻璃基板(1)进行加热；加热温度采用280-380摄氏度；

B、利用磁控溅射真空镀膜设备，对加热后的玻璃基板(1)，在玻璃基板(1)上表面的干涉层二(5)上方和下表面的透明层(6)下方同步溅射ITO膜(7)；

C、对溅射ITO膜(7)后的玻璃基板(1)，经缓冲室做退火处理：先降温至200摄氏度，再加温至300摄氏度稳定，完成对玻璃基板(1)的镀膜。