[发明专利]一种触摸屏双面消影导电玻璃的加工方法

权利要求书

1.一种触摸屏双面消影导电玻璃的加工方法，所述触摸屏双面消影导电玻璃是由上玻璃基板(1)、锡面(2)、空气面(3)、上干涉层一(4)、上透明钝化层(5)、上干涉层二(6)、下玻璃基板(7)、下干涉层(8)、下透明钝化层(9)、透明层(10)、ITO膜(11)构成；其特征在于：上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的两个表面均为锡面(2)和空气面(3)，上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的空气面(3)对应贴合，上玻璃基板(1)上表面的锡面(2)上方设置上干涉层一(4)，上干涉层一(4)与上干涉层二(6)之间设置上透明钝化层(5)，上干涉层二(6)上方设置ITO膜(11)，下玻璃基板(7)下表面的锡面(2)下方设置下干涉层(8)，下干涉层(8)与透明层(10)之间设置下透明钝化层(9)，透明层(10)下方设置ITO膜(11)；

所述上透明钝化层(5)和下透明钝化层(9)均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；

所述上干涉层一(4)、上干涉层二(6)、下干涉层(8)均采用五氧化二铌。

2.一种触摸屏双面消影导电玻璃的加工方法，其特征在于：

第一步，对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行处理，

A、对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行切割，先X切割，再Y切割，然后再掰片处理；

B、对切割后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行磨边和倒角，先X磨边，再倒角，旋转90°再对Y磨边及倒角；

C、刷洗吹干；

D、对磨边和倒角后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行抛光；

E、再刷洗吹干；

第二步，对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)溅射上干涉层一(4)、上透明钝化层(5)、下干涉层(8)、下透明钝化层(9)；

A、对抛光刷洗吹干后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)沿空气面(3)粘合在一起进行加热；采用的加热温度为150-280摄氏度；

B、利用磁控溅射真空镀膜设备对加热后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的锡面(2)上同时溅射上干涉层一(4)和下干涉层(8)，上干涉层一(4)和下干涉层(8)均采用五氧化二铌，上干涉层一(4)上方和下干涉层(8)的下方同时溅射上透明钝化层(5)和下透明钝化层(9)，上透明钝化层(5)和下透明钝化层(9)均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；

第三步，在上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)溅射的上透明钝化层(5)和下透明钝化层(9)上，进行上干涉层二(6)、透明层(10)和ITO膜(11)溅射；

A、对第二步溅射后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)进行加热；加热温度采用280-380摄氏度；

B、利用磁控溅射真空镀膜设备，对加热后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)溅射，在上玻璃基板(1)的上透明钝化层(5)上方和下玻璃基板(7)的下透明钝化层(9)下方，同时进行上干涉层二(6)和透明层(10)溅射，上干涉层二(6)采用五氧化二铌，上干涉层二(6)上方和透明层(10)下方同时溅射ITO膜(11)；

C、对溅射ITO膜(11)后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)，经缓冲室做退火处理：先降温至200摄氏度，再加温至300摄氏度稳定，完成对上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的镀膜。