[发明专利]一种触摸屏单面消影导电玻璃的加工方法

说明书

一种触摸屏单面消影导电玻璃的加工方法，第一步，对上玻璃基板和下玻璃基板进行处理，第二步，对上玻璃基板和下玻璃基板溅射上干涉层一、上透明钝化层、下干涉层；第三步，在上玻璃基板和下玻璃基板第二步溅射的基础上进行上干涉层二和ITO膜溅射；具有良好的电磁屏蔽、静电防护和消影作用，并且能够完全代替现有的传统导电玻璃，为下游客户提供低耗能、高均匀性、低成本的制作电容屏用导电玻璃。

技术领域

本发明涉及导电玻璃技术领域，尤其是一种触摸屏单面消影导电玻璃的加工方法。

背景技术

目前，电容屏产品使用非常广泛，而电容屏中的双面镀导电玻璃是其主要器件，双面镀导电玻璃的导电薄膜在性能方面要求比较严，比如均匀性、耐热性能、耐酸碱性能、耐高温高湿性能等；在制作透明电路的时候，由于工艺难度增加，在制作电路时常采用酸刻电路。在制作过程中，容易蚀刻掉不应该刻蚀的部位，并且存在电路蚀刻的蚀痕影迹，影响其电磁屏蔽、静电保护功能，存在的蚀痕影迹会对观看图案产生影响。

鉴于上述原因，现研发出一种触摸屏单面消影导电玻璃的加工方法。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种触摸屏单面消影导电玻璃的加工方法，具有良好的电磁屏蔽、静电防护和消影作用，并且能够完全代替现有的传统导电玻璃，为下游客户提供低耗能、高均匀性、低成本的制作电容屏用导电玻璃。

本发明为了实现上述目的，采用如下技术方案：一种触摸屏单面消影导电玻璃的加工方法，所述触摸屏单面消影导电玻璃是由上玻璃基板、锡面、空气面、上干涉层一、上透明钝化层、上干涉层二、下玻璃基板、下干涉层、ITO膜构成；上玻璃基板和下玻璃基板的两个表面均为锡面和空气面，上玻璃基板和下玻璃基板的空气面对应贴合，上玻璃基板的锡面上方设置上干涉层一，上干涉层一与上干涉层二之间设置上透明钝化层，上干涉层二上方设置ITO膜，下玻璃基板的锡面下方设置下干涉层，下干涉层下方设置ITO膜；

所述上透明钝化层采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；

所述上干涉层一、上干涉层二、下干涉层均采用五氧化二铌。

第一步，对上玻璃基板和下玻璃基板进行处理，

A、对上玻璃基板和下玻璃基板进行切割，先沿X方向切割，再沿Y方向切割，然后再掰片处理；

B、对切割后的上玻璃基板和下玻璃基板进行磨边和倒角，先沿X方向磨边再倒角，旋转90°后，再沿Y方向磨边及倒角；

C、刷洗吹干；

D、对磨边和倒角后的上玻璃基板和下玻璃基板进行抛光；

E、再刷洗吹干；

第二步，对上玻璃基板和下玻璃基板溅射上干涉层一、上透明钝化层、下干涉层；

A、对抛光刷洗吹干后的上玻璃基板和下玻璃基板沿空气面粘合在一起进行加热；采用的加热温度为150-280摄氏度；

B、利用磁控溅射真空镀膜设备对加热后的上玻璃基板上表面的锡面上方溅射上干涉层一，上干涉层一采用五氧化二铌，上干涉层一上方溅射上透明钝化层，上透明钝化层采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅，下玻璃基板下表面的锡面下方溅射下干涉层，下干涉层采用五氧化二铌；

第三步，在上玻璃基板和下玻璃基板第二步溅射的基础上进行上干涉层二和ITO膜溅射；

A、对第二步溅射后的上玻璃基板和下玻璃基板进行加热；加热温度采用280-380摄氏度；

B、利用磁控溅射真空镀膜设备，对加热后的上玻璃基板和下玻璃基板溅射，在上玻璃基板的上透明钝化层上方溅射上干涉层二，上干涉层二采用五氧化二铌，上干涉层二上方溅射ITO膜，下干涉层下方溅射ITO膜；