[发明专利]曝光装置及其制作方法、封框胶固化方法在审
申请号: | 201510701377.4 | 申请日: | 2015-10-26 |
公开(公告)号: | CN105353566A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 马国靖;任锦宇;徐长健;王丹;宋勇志 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G03F7/20 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 及其 制作方法 封框胶 固化 方法 | ||
1.一种曝光装置,其特征在于,包括:基底;形成在基底上的多个发光单元、多个发光控制电路、发光控制线以及光转换层;其中,所述曝光装置包括多个受控发光区域,每一个受控发光区域内形成有一个发光单元;
每一个发光控制电路一对一连接一个发光单元,并连接发光控制线,适于在发光控制线所施加的控制的信号的控制下该发光单元的发光状态;
所述光转换层位于各个发光单元的出光方向上,用于将各个发光单元发出的光转换为紫外光后出射。
2.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,每一个发光单元包括第一电极、第二电极以及设置在所述第一电极和所述第二电极之间的电致发光层,所述第一电极连接相应的发光控制电路;各个发光单元的第一电极相互独立。
3.如权利要求2所述的曝光装置,其特征在于,所述光转换层形成在基底的第一面上,所述多个发光控制电路和多个发光单元形成在基底的第二面上;
在所述基底的第二面上,所述多个发光单元的第一电极形成在所述多个发光控制电路的上方,所述电致发光层和所述第二电极形成在所述第一电极的上方,且所述第二电极为反射电极,所述第一电极为透明电极。
4.如权利要求2所述的曝光装置,其特征在于,所述电致发光层中包括Alq、Balq或DPVBi。
5.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述光转换层包括Yb3+/Tm3+共掺的Y2O3;或者Er3+/Yb3+共掺的ZnO。
6.如权利要1所述的曝光装置,其特征在于,所述多个发光单元和/或所述多个发光控制电路和/或所述发光控制线通过图案化工艺形成在所述基底上。
7.如权利要1所述的曝光装置,其特征在于,所述发光控制电路包括薄膜晶体管。
8.一种利用如权利要求1-7任一项所述的曝光装置固化封框胶的方法,其特征在于,包括:
在发光控制线上施加控制信号,使待固化的封框胶对应的受控发光区域内的发光单元发光,使其他受控发光区域内的发光单元不发光。
9.一种制作曝光装置的方法,其特征在于,包括:在基底上形成多个发光单元、多个发光控制电路、发光控制线以及光转换层;其中,所述曝光装置包括多个受控发光区域,每一个受控发光区域内形成有一个发光单元;
每一个发光控制电路一对一连接一个发光单元,并连接发光控制线,适于在发光控制线所施加的控制的信号的控制下该发光单元的发光状态;
所述光转换层位于各个发光单元的出光方向上,用于将各个发光单元发出的光转换为紫外光后出射。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述在基底上形成多个发光单元、多个发光控制电路、发光控制线以及光转换层,包括:
通过图案化工艺在基底上形成多个发光单元和/或多个发光控制电路和/或发光控制线以及光转换层。
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