[发明专利]画布元素处理方法及装置

权利要求书

1.一种画布元素处理方法，其特征在于，包括：

显示待处理画布，所述待处理画布中包含若干画布元素；

响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，在所述若干画布元素中，确定所述线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素；

触发预设画布元素处理模块依次处理所述至少一个目标画布元素。

2.根据权利要求1所述的画布元素处理方法，其特征在于，所述响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，在所述多个画布元素中，确定所述线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素，包括：

响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，依据所述线条轨迹的延伸方向，依次确定所述线条轨迹中的至少一个关键点；

依据所述至少一个关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含所述关键点的目标画布元素；其中，各个所述目标画布元素互不相同。

3.根据权利要求2所述的画布元素处理方法，其特征在于，所述依据至少一个所述关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含所述关键点的目标画布元素，包括：

依据所述至少一个关键点的确定顺序，将首个所述关键点作为当前关键点；

在所述若干画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的备选画布元素；

若查找到、并且不存在由所述备选画布元素确定的目标画布元素，将所述备选画布元素确定为目标画布元素；

若查找到、并且存在由所述备选画布元素确定的目标画布元素，将下一关键点作为当前关键点，返回在所述若干画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的备选画布元素，直至最后一个所述关键点；

若未查找到，将下一关键点作为当前关键点，返回在所述若干画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的备选画布元素，直至最后一个所述关键点。

4.根据权利要求2所述的画布元素处理方法，其特征在于，所述依据所述至少一个关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含所述关键点的目标画布元素，包括：

依据所述至少一个关键点的确定顺序，将首个所述关键点作为当前关键点；

在去除目标画布元素的所述画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的画布元素；

若查找到，将查找到的所述画布元素确定为目标画布元素；

若未查找到，将下一关键点作为当前关键点，返回在去除目标画布元素的所述画布元素中，查找显示区域内包含所述当前关键点的画布元素，直至最后一个所述关键点。

5.根据权利要求1所述的画布元素处理方法，其特征在于，确定出的目标画布元素依次存储在队列中；

相应地，所述触发预设画布元素处理模块依次处理所述至少一个目标画布元素，包括：

依次从所述队列的队首取出所述目标画布元素，每取出一个所述目标画布元素，触发预设画布元素处理模块处理该述目标画布元素；

或者，

依次从所述队列的队尾取出所述目标画布元素，每取出一个所述目标画布元素，触发预设画布元素处理模块处理该述目标画布元素。

6.一种画布元素处理装置，其特征在于，包括：

画布元素显示模块，用于显示待处理画布，所述待处理画布中包含若干画布元素；

目标画布元素确定模块，用于响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，在所述若干画布元素中，确定所述线条轨迹依次经过的至少一个目标画布元素；

目标画布元素处理模块，用于触发预设画布元素处理模块依次处理所述至少一个目标画布元素。

7.根据权利要求6所述的画布元素处理装置，其特征在于，所述目标画布元素确定模块包括：

线条关键点确定子模块，用于响应于用户在所述待处理画布上划出的线条轨迹，依据所述线条轨迹的延伸方向，依次确定所述线条轨迹中的至少一个关键点；

目标画布元素确定子模块，用于依据所述至少一个关键点的确定顺序，依次确定出显示区域内包含所述关键点的目标画布元素；其中，各个所述目标画布元素互不相同。