[发明专利]一种神经刺激器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201510701868.9 申请日: 2015-10-26
公开(公告)号: CN105214214B 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 杨佳威;陈景雄;王健 申请(专利权)人: 温州生物材料与工程研究所
主分类号: A61N1/372 分类号: A61N1/372
代理公司: 中国商标专利事务所有限公司 11234 代理人: 曹恒涛
地址: 325000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 神经 刺激 及其 制作方法
【说明书】:

发明属于生物医学工程技术领域,具体涉及一种神经刺激器,包括基底,开设若干通孔;微电极,若干个,所述微电极通过填充通孔设置在基底上,漏出在基底一侧的为微电极的刺激部,另一侧为微电极的连接部;刺激芯片,所述微电极的连接部直接倒装焊接在刺激芯片上;外壳,密封连接在基底上。制作方法采用激光打孔、电镀通孔等加工技术,激光焊的封装方式。本发明采用倒装焊工艺连接微电极与刺激芯片,极大减少了刺激器植入过程中造成的组织损伤,本发明制作方法过程简单,周期短。在高密度、有序排列的可植入三维微电极阵列方面,实现高密度的选择性刺激与记录,具有良好的应用前景。

技术领域

本发明属于生物医学工程技术领域,具体涉及一种神经刺激器及制作方法。

背景技术

植入式神经刺激器在医学上有着广泛的应用,如人工耳蜗、人工视觉恢复、脑深部电刺激系统等。微电极作为揭示神经系统工作机理、治疗神经疾病等方面的重要工具,越来越受到人们广泛的关注,已成为当前重要的研究方向。

人们对微电极的应用,通常是将微电极植入动物或者患者体内,通过加载电信号来刺激或抑制神经活动,或者利用微电极将神经活动转换为电信号记录下来加以研究。由于作用目标的不同,各种基于微加工技术制作的微电极阵列得到了发展。其中,高密度、有序排列的三维微电极阵列可植入神经组织内,实现高密度的选择性刺激与记录,具有良好的应用前景。

当前,神经刺激器的微电极与刺激芯片通过导线连接,而当制作高密度微电极阵列时,随着刺激点数量的增加,连接微电极阵列内刺激点导线的数量不断上升,会导致布线宽度变大,手术植入开口需要增大,创伤面大。

目前三维微电极阵列的制作多采用MEMS工艺、在基底材料上生成微电极阵列的方法。加工过程比较复杂,成本很高,限制了该类型微电极的推广和使用。

为了解决上述问题,研究人员开始研究一种神经刺激器,并且改进神经刺激器的制作方法。

发明内容

为此,本发明所要解决的技术问题在于现有技术的神经刺激器,神经刺激器的微电极与刺激芯片通过导线连接,导致布线宽度大,手术植入开口大,创伤面大的问题,进而提出一种神经刺激器及其制作方法。

为解决上述技术问题,本发明提供了一种神经刺激器,包括基底,开设若干通孔;

微电极,若干个,用于刺激神经元;所述微电极通过填充通孔设置在基底上,漏出在基底一侧的为微电极的刺激部,另一侧为微电极的连接部;

刺激芯片,用于控制所述微电极向神经元发出刺激信号并接收反馈信号;所述微电极的连接部直接倒装焊接在刺激芯片上;

外壳,密封连接在基底上,与基底形成空腔,用于封装微电极的连接部和刺激芯片。

进一步地,所述刺激芯片上设有若干个接点,所述接点与所述微电极的连接部一一对应,且通过倒装焊接连接。

作为优选,所述通孔呈阵列式分布在所述基底上,以使若干个微电极在基底上排列成微电极阵列。尤其是对于高密度的微电极阵列,该产品更能有效体现出其节省空间,减小手术植入开口的优势。

进一步地,所述微电极通过在基底上电镀通孔加工而成,所述基底通过刻蚀一定厚度,露出微电极的刺激部和连接部。简化了目前常规的三维微电极阵列,过程简单,制作周期短。

进一步地,所述基底与外壳通过激光焊工艺进行封装。避免了引入封装试剂,从而对组织细胞产生不良影响。

作为优选,所述基底或基底与外壳的材质为具有良好生物相容性的玻璃。目前,通常用硅、聚酰亚胺和聚对二甲苯作为微电极基底材料,其中,聚酰亚胺和聚对二甲苯等材料具备柔性、生物相容性好等特点,但机械强度不够。硅材料等硬度过高,可能造成生理组织的损伤。而玻璃基底,尤其是具有良好生物相容性的玻璃基底,具有一定的柔韧性,良好的生物相容性,且具有良好的机械强度。

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