[发明专利]一种钙离子选择膜及其制备方法

权利要求书

1.一种钙离子选择膜及其制备方法，其特征在于：所述钙离子选择膜包括高分子粘结剂、离子载体、载体溶剂、阴离子干扰剂和表面活性剂；所述钙离子选择膜主要制备步骤包括，（1）将高分子粘结剂、离子载体、载体溶剂、阴离子干扰剂和表面活性剂完全溶解在乙酸乙酯溶液中；（2）将配置好的溶液静置20~60min后涂布；（3）通风干燥后制得钙离子选择膜。

2.根据权利要求1所述高分子粘结剂，其特征在于：所述高分子粘结剂选自丙烯酸乙酯、丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸正癸酯共聚物中的一种或几种，占钙离子选择膜总质量的10%~60%。

3.根据权利要求1所述离子载体，其特征在于：所述离子载体选自(-)-(R,R)-N,N-二-[11-(乙氧羰基)十一烷基]-N,N′,4,5-四甲基-3,6-二氧杂辛烷-二酰胺;二乙基N,N′-[(4R,5R)-4,5-二甲基-1,8-二氧代-3,6-二氧杂亚辛基]双(12-甲氨基月桂酸（ETH1001）、N,N,N′,N′-四[环己基]二甘醇酸二酰胺N,N,N′,N′-四环己基-3-氧杂戊二酰（ETH129）、卡西霉素（A23187）、叔丁基-杯[4]芳烃四[2-(二苯基磷酰基)乙醚]、10,19-双[(十八烷基氨基甲酰基)甲氧基乙酰基]-1,4,7,13,16-五氧杂-10,19-二氮杂环二十一烷（K23E1）中的一种，占钙离子选择膜总质量的0.1%~10%。

4.根据权利要求1所述载体溶剂，其特征在于：所述载体溶剂选自邻苯二甲酸酯、癸二酸酯、邻硝基苯辛醚、己二酸酯混合芳族脂族磷酸酯中的一种或几种，占钙离子选择膜总质量的20%~80%。

5.根据权利要求1所述阴离子干扰剂，其特征在于：所述阴离子干扰剂选自四苯硼钠、四苯硼钾、四(4-氯苯基)硼酸钾、四[3,5-双(三氟甲基)苯基]硼酸钠中的一种或几种，占钙离子选择膜总质量的0.1%~5%。

6.根据权利要求1所述表面活性剂，其特征在于：所述表面活性剂选自有机硅或硅氧烷类表面活性剂中的一种或几种，占钙离子选择膜总质量的0.1%~5%。

7.根据权利要求1所述钙离子选择膜，其特征在于：所述钙离子选择膜厚度为5~20μm。